「集成電路布圖設計專有權侵權案件」常見問題剖析！

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來源：IPRdaily中文網(wǎng)（IPRdaily.cn）

作者：陳軍 安徽天禾律師事務所律師

原標題：集成電路布圖設計專有權侵權案件常見問題剖析

集成電路，是指半導體集成電路，即以半導體材料為基片，將至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路集成在基片之中或者基片之上，以執(zhí)行某種電子功能的中間產(chǎn)品或者最終產(chǎn)品。集成電路布圖設計（下稱布圖設計），是指集成電路中至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置，或者為制造集成電路而準備的上述三維配置。立法層面，目前我國有關布圖設計僅有《集成電路布圖設計保護條例》(下稱《條例》)、《集成電路布圖設計保護條例實施細則》及《集成電路布圖設計行政執(zhí)法辦法》三部法律法規(guī)。

自2001年10月1日《條例》施行后，筆者使用“案由：侵害集成電路布圖設計專有權糾紛”為關鍵詞，在中國裁判文書網(wǎng)上進行檢索發(fā)現(xiàn)，截至2018年4月6日全部檢索結果：判決與裁定共20篇。這其中，判決書11份，裁定書9份。20篇法律文書中，有部分裁決也為一起糾紛案件形成的多份法律文書，為此，能夠為公眾進行有效分析討論的法律文書過少。

但隨著《國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進綱要》的頒布實施，及布圖設計登記授權量的逐年增加[1]，如何為布圖設計提供充分有效的法律保護，已為集成電路設計、制造等行業(yè)及司法實務所共同關注的問題?；诂F(xiàn)有法律規(guī)定，結合前述已檢索到的全部法律文書，筆者現(xiàn)就當前布圖設計專有權侵權案件中常見爭議焦點進行梳理，并將司法審判相應觀點進行歸納總結，借此為布圖設計權利人提供維權參考。

一、法律依據(jù)

我國《條例》就布圖設計專有權的產(chǎn)生、具體內容及損害賠償作出了具體規(guī)定，其中：

第四條 受保護的布圖設計應當具有獨創(chuàng)性，即該布圖設計是創(chuàng)作者自己的智力勞動成果，并且在其創(chuàng)作時該布圖設計在布圖設計創(chuàng)作者和集成電路制造者中不是公認的常規(guī)設計。

第七條 布圖設計權利人享有下列專有權：

（一）對受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分進行復制；

（二）將受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品投入商業(yè)利用。

第八條 布圖設計專有權經(jīng)國務院知識產(chǎn)權行政部門登記產(chǎn)生。

未經(jīng)登記的布圖設計不受本條例保護。

第十二條 布圖設計專有權的保護期為10年，自布圖設計登記申請之日或者在世界任何地方首次投入商業(yè)利用之日起計算，以較前日期為準。但是，無論是否登記或者投入商業(yè)利用，布圖設計自創(chuàng)作完成之日起15年后，不再受本條例保護。

第十六條 申請布圖設計登記，應當提交：（一）布圖設計登記申請表；（二）布圖設計的復制件或者圖樣；（三）布圖設計已投入商業(yè)利用的，提交含有該布圖設計的集成電路樣品；（四）國務院知識產(chǎn)權行政部門規(guī)定的其他材料。

第三十條 除本條例另有規(guī)定的外，未經(jīng)布圖設計權利人許可，有下列行為之一的，行為人必須立即停止侵權行為，并承擔賠償責任：

（一）復制受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分的；

（二）為商業(yè)目的進口、銷售或者以其他方式提供受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品的。

侵犯布圖設計專有權的賠償數(shù)額，為侵權人所獲得的利益或者被侵權人所受到的損失，包括被侵權人為制止侵權行為所支付的合理開支。

二、布圖設計獨創(chuàng)性舉證責任

布圖設計專有權人若要進行維權，首先需要解決的是布圖設計具有獨創(chuàng)性，當前司法實務觀點認為，布圖設計一經(jīng)登記授權，即推定具有獨創(chuàng)性，被訴侵權人若認為其不具有獨創(chuàng)性，應提交反證予以證實，如：

（1）深圳市華彩威科技有限公司與深圳市明微電子股份有限公司侵害集成電路布圖設計專有權糾紛案【廣東省高級人民法院（2017）粵民終1145號】

“《條例》第四條規(guī)定：受保護的布圖設計應當具有獨創(chuàng)性，即該布圖設計是創(chuàng)作者自己的智力勞動成果，并且在其創(chuàng)作時該布圖設計在布圖設計創(chuàng)作者和集成電路生產(chǎn)者中不是公認的常規(guī)設計。受保護的由常規(guī)設計組成的布圖設計，其組合作為整體應當符合前款規(guī)定的條件。一審法院認為，分析獨創(chuàng)性應當是先由明微公司明確主張權利內容，再由華彩威公司提出不屬于獨創(chuàng)性抗辯證據(jù)，在雙方充分對抗的情況下，由法庭進行綜合考慮，最終作出獨創(chuàng)性判定。

本案，明微公司主張其BS.13500569.8名稱為“DMX512AH(88B)”布圖設計八個模塊和整體布局具有獨創(chuàng)性，明微公司指出現(xiàn)有技術的顯示數(shù)據(jù)是串聯(lián)傳輸，而明微公司芯片是國內第一款并聯(lián)驅動的芯片，因此符合獨創(chuàng)性的法律特征。華彩威公司不確認明微公司的主張，但是華彩威公司又拒不提交其抗辯的證據(jù)材料，華彩威公司也拒不交納鑒定費致使鑒定終結。

《最高人民法院關于民事訴訟證據(jù)的若干規(guī)定》第二十五條規(guī)定了對需要鑒定的事項負有舉證責任的當事人，在人民法院指定的期限內無正當理由不提出鑒定申請或者不預交鑒定費用或者拒不提供相關材料，致使對案件爭議的事實無法通過鑒定結論予以認定的，應當對該事實承擔舉證不能的法律后果。據(jù)此，一審法院依據(jù)民事訴訟的證據(jù)規(guī)則，確定明微公司主張的獨創(chuàng)性成立。”

（2）南京通華芯微電子有限公司與西安民展通訊科技有限公司等侵害集成電路布圖設計專有權糾紛案【江蘇省高級人民法院（2015）蘇知民終字第00114號】

“雖然鑒定報告未指出THX202H布圖設計的獨創(chuàng)性內容，但根據(jù)現(xiàn)有證據(jù)可以推定通華芯公司主張的上述內容具有獨創(chuàng)性。主要理由是：《條例》第四條規(guī)定，受保護的布圖設計應當具有獨創(chuàng)性，即該布圖設計是創(chuàng)作者自己的智力勞動成果，并且在其創(chuàng)作時該布圖設計在布圖設計創(chuàng)作者和集成電路制造者中不是公認的常規(guī)設計。由此可見，集成電路布圖設計專有權所保護的是布圖設計中具有獨創(chuàng)性的部分。獨創(chuàng)性的證明標準則是該布圖設計不是公認的常規(guī)設計，屬于消極事實，而消極事實本身是無法直接證明的，但可以間接證明，即積極事實的主張者若想否定消極事實主張者的主張，只需簡單舉出反證即可。如果被訴侵權人不能證明其主張，就要承擔對其不利的法律后果。

本案中，布圖設計專有權人通華芯公司已對其主張的獨創(chuàng)性部分的內容進行了詳細的陳述，已經(jīng)完成了初步的舉證責任，如果啟達公司、民展公司認為通華芯公司主張的獨創(chuàng)性內容是公認的常規(guī)設計，則其只要能提供在涉案布圖設計登記日之前完成的一份相同或者實質相似的常規(guī)布圖設計即可。民展通訊公司系專業(yè)從事集成電路設計及系統(tǒng)集成應用開發(fā)的國家級高新技術企業(yè)，自身擁有集成電路布圖設計登記，也在集成電路領域擁有專利權，擁有自己的研發(fā)團隊，其對集成電路行業(yè)技術發(fā)展具有常規(guī)了解，具有提交相關常規(guī)設計證據(jù)的能力，但其僅簡單否定，并未提交任何相反證據(jù)證明其抗辯主張，對此，應認定通華芯公司主張其布圖設計具有獨創(chuàng)性部分的內容成立?！?br/>

（3）泉芯電子技術有限公司與南京微盟電子有限公司侵害集成電路布圖設計專有權糾紛案【廣東省高級人民法院（2014）粵高法民三終字第1231號】

“原審法院認為，集成電路布圖設計實質上是一種圖形設計，是確定用以制造集成電路的電子元件在一個傳導材料中的幾個圖形排列和連接的布局設計，微盟公司主張涉案ME6206芯片的布圖設計是采用常規(guī)設計并通過不同的組合方式，達到一定的優(yōu)化功能即“ME6206是具有過流和短路保護的CMOS降壓型電壓穩(wěn)壓器”，而泉芯公司亦未對涉案ME6206芯片的布圖設計獨創(chuàng)性提出抗辯，據(jù)此，原審法院認定涉案ME6206芯片的布圖設計具有獨創(chuàng)性?！?br/>

三、專有權人的布圖設計與被訴芯片應具有同一性

題述中的同一性，即為被訴芯片是否復制使用了布圖設計全部或部分獨創(chuàng)性部分[2]，為審理侵害布圖設計專有權糾紛案重中之重的問題。對此，司法實務已就下列問題給出明確觀點：

1、布圖設計專有權人應首先向法院明確其布圖設計中具有獨創(chuàng)性的內容，同時向法院提交自行比對的與被訴芯片具有同一性的結果。

在布圖設計專有權人完成題述舉證責任的情況下，若被訴侵權人拒不提交被訴芯片的圖樣，且拒不繳納司法鑒定費用，法院可以直接作出兩者具有同一性的不利推定。如深圳市華彩威科技有限公司與深圳市明微電子股份有限公司侵害集成電路布圖設計專有權糾紛案【廣東省高級人民法院（2017）粵民終1145號】中：

“按照明微公司的上述主張的證據(jù)及理由，華彩威公司W(wǎng)S2821芯片復制了明微公司主張的八個模塊布圖設計。華彩威公司對明微公司提交的對比結論有異議，但沒有具體提出明微公司對比錯誤的依據(jù)及理由，華彩威公司也沒有提交其認為被控芯片與明微公司布圖設計的對比文件。出于慎重考慮，一審法院決定對技術對比等問題進行司法鑒定，但是，華彩威公司在鑒定過程中拒不履行預交鑒定費等義務，致使司法鑒定程序終結，依據(jù)《最高人民法院關于民事訴訟證據(jù)的若干規(guī)定》第二十五條規(guī)定，華彩威公司應當承擔不利后果。據(jù)此，一審法院認定華彩威公司W(wǎng)S2821芯片復制了明微公司登記保護布圖設計的具有獨創(chuàng)性八個模塊布圖設計。”

2、被訴芯片復制全部布圖設計中的任一獨創(chuàng)性設計，即落入專有權保護范圍。

首先，對此問題，在《條例》第七條第一項已給出明確規(guī)定，復制布圖設計全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分，均落入布圖設計專有權范圍。

其次，在鉅泉光電科技股份有限公司訴上海雅創(chuàng)電子零件有限公司等侵害集成電路布圖設計專有權糾紛案【上海市第一中級人民法院（2010）滬一中民五（知）初字第51號】中：

“在集成電路布圖設計中，任何具有獨創(chuàng)性的布圖設計的相同或者實質性相似與整個芯片的布圖設計相同或者實質性相似是兩個概念，不能因原、被告芯片整體布圖設計的不相同或者不實質性相似而否定涉案兩個具體布圖設計相同或者實質性相似的事實。因此，被告銳能微公司對涉案RN8209、RN8209G芯片的布圖設計與原告ATT7021AU芯片布圖設計存在上述兩個相同部分布圖設計的鑒定結論所持的異議不能成立，本院不予采納?！?br/>

3、盡可能選擇布圖設計圖樣作為檢材與被訴芯片進行比對。

《條例》第十六條的規(guī)定，在確定權利人的布圖設計權利范圍時，優(yōu)先選擇登記授權時所提交的復制件或者圖樣而定。但布圖設計登記授權實務中，很多布圖設計圖樣相較于權利人產(chǎn)品實物并不完整且線條不夠清晰，無法與被訴侵權產(chǎn)品進行有效比對時，能否使用布圖設計樣品與被訴侵權產(chǎn)品進行比對，司法實務中對此尚有爭議：

在深圳市中級人民法院審理的兩起案號分別為“[2006] 深中法民三初字第 255 號”及“[2009] 深中法民三初字第 184 號”的集成電路布圖設計專有權糾紛案件中，由于專有權人登記時提交，后作為庭審證據(jù)的布圖設計圖樣相較于原告產(chǎn)品實物并不完整且線條不夠清晰，無法與被告產(chǎn)品進行有效比對，因此法院將登記時提交的芯片樣品作為了專有權保護范圍的證據(jù)與被訴侵權產(chǎn)品進行比對。

而在昂寶電子（上海）有限公司與被南京智浦芯聯(lián)電子科技有限公司等侵害集成電路布圖設計專有權糾紛案【江蘇省高級人民法院（2013）蘇知民終字第0180號】中，法院認為：

“以復制件或圖樣為準確定專有權的保護內容，符合《條例》規(guī)定的精神?！稐l例》第十六條規(guī)定，申請布圖設計登記，應當提交：（一）布圖設計登記申請表；（二）布圖設計的復制件或者圖樣；（三）布圖設計已投入商業(yè)利用的，提交含有該布圖設計的集成電路樣品；（四）國務院知識產(chǎn)權行政部門規(guī)定的其他材料?！都殑t》第十七條第（一）項規(guī)定，布圖設計登記申請未提交布圖設計登記申請表或者布圖設計的復制件或者圖樣的，已投入商業(yè)利用而未提交集成電路樣品的，或者提交的上述各項不一致的，國家知識產(chǎn)權局不予受理。

由上述規(guī)定可知，對于申請時已投入商業(yè)利用的布圖設計，申請人除了需要提交樣品外，仍然需要提交布圖設計的復制件或者圖樣，如果僅憑樣品即可確定布圖設計專有權的保護內容，則無須要求申請人再提交復制件或圖樣。因此，《條例》第十六條及《細則》第十七條規(guī)定可以解釋為提交復制件或者圖樣是獲得布圖設計專有權的必要條件，昂寶公司上訴認為，登記時提交樣品，就應當以樣品來確定專有權的保護內容與《條例》規(guī)定的基本精神不符，本院不予支持。”

鑒于上述司法審判實務現(xiàn)狀，建議布圖設計專有權人，在布圖設計申請登記時務必提交完整清晰的布圖設計圖樣，以避免后期維權風險。

4、同一性比對時，先行確定被訴芯片與布圖設計相同部分，再就該部分是否具有獨創(chuàng)性進行審查。

在深圳市華彩威科技有限公司與深圳市明微電子股份有限公司侵害集成電路布圖設計專有權糾紛案【廣東省高級人民法院（2017）粵民終1145號】中：

“在侵犯集成電路布圖設計案件中，判斷被訴侵權產(chǎn)品是否構成侵權，可以先確定被訴侵權集成電路包含的布圖設計是否與通華芯公司主張的布圖設計相同或部分相同；再對相同部分是否具有獨創(chuàng)性進行認定，如相同部分的具有獨創(chuàng)性，則構成侵權。而對于是否相同的認定，在僅有被訴侵權芯片且當事人未提供被訴侵權布圖設計的情況下，可以通過對被訴芯片反向提取其版圖，即將通過反向工程提取被訴侵權芯片的器件層視圖、金屬層視圖，與權利人的布圖設計中對應的器件層及金屬層進行是否相同或實質相同比對。

本案中，工信電司鑒中心[2013]知鑒字第55號《司法鑒定報告書》方法是，鑒定機構將從國家知識產(chǎn)權局調取的通華芯公司THX202H布圖設計的電子版，與其委托北京芯愿景軟件技術有限公司從被訴CR6202T中提取的布圖設計進行比對。在比對時，先對整體布局比對；再按功能進行模塊劃分，比對各功能模塊布圖是否相同。涉案《司法鑒定報告書》第33頁明確載明，芯愿景公司提取了CR6202T的器件層視圖、M1視圖和M2視圖，故民展公司主張涉案鑒定報告未提取被訴侵權芯片的器件層視圖的抗辯，缺乏事實依據(jù)。”

注釋：

[1]根據(jù)國家知識產(chǎn)權局公開的集成電路布圖設計專有權公告數(shù)據(jù)統(tǒng)計，從2001年10月1日至2016年12月31日，在我國登記公告的布圖設計總計為12778件（包括國外的企業(yè)和個人在我國登記的所有布圖設計專有權）。而2016年公告的全國集成電路布圖設計專有權總量為1918件。

[2]同一性的鑒定需選擇具有資質的司法鑒定機構,對此,筆者整理了近年來接受司法委托，并其所出具的鑒定結論為司法所認可的部分鑒定機構，如北京芯愿景軟件技術有限公司、工業(yè)和信息化部軟件與集成電路促進中心、北京紫圖知識產(chǎn)權司法鑒定中心等。

來源：IPRdaily中文網(wǎng)（IPRdaily.cn）

作者：陳軍 安徽天禾律師事務所律師

編輯：IPRdaily趙珍          校對：IPRdaily縱橫君

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