專利
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原標(biāo)題:國(guó)外局部外觀設(shè)計(jì)申請(qǐng)視圖簡(jiǎn)介
局部外觀設(shè)計(jì),是指對(duì)產(chǎn)品的某一局部作出的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。我國(guó)在第四次專利法修改中引入了局部外觀設(shè)計(jì)保護(hù)制度,為了讓廣大創(chuàng)新主體增加對(duì)局部外觀設(shè)計(jì)的了解,本文對(duì)國(guó)外局部外觀設(shè)計(jì)的申請(qǐng)視圖的提交情況做簡(jiǎn)要介紹。
雖然各局對(duì)于申請(qǐng)視圖的提交規(guī)定不盡相同,但是,在局部外觀設(shè)計(jì)申請(qǐng)視圖的提交方式上,美國(guó)、日本、韓國(guó)及WIPO均允許以下兩種提交方式:
一、采用虛線與實(shí)線結(jié)合的方式。實(shí)線繪制的為保護(hù)的部分,虛線繪制的為不保護(hù)的部分。
1. 申請(qǐng)?zhí)枺篣S29708708
2. 申請(qǐng)?zhí)枺篕R30-2014-0006250
3. 申請(qǐng)?zhí)枺篔PD2015-13645
二、采用半透明涂覆的方式。未覆蓋的為保護(hù)的部分,覆蓋的為不保護(hù)的部分。
1. 申請(qǐng)?zhí)枺篔PD2007-24187
2. 申請(qǐng)?zhí)枺篍M000220405-0006
值得注意的是,雖然申請(qǐng)視圖的提交方式不同,但是,申請(qǐng)視圖中均既包含了需要保護(hù)的局部設(shè)計(jì),同時(shí),也包含了該局部所在的整體產(chǎn)品,僅僅是通過(guò)不同的繪制或者處理方式將保護(hù)與不保護(hù)的部分加以區(qū)分;同時(shí),申請(qǐng)視圖中也均充分、清楚地顯示了要求保護(hù)的產(chǎn)品的了局部外觀設(shè)計(jì),以明確其保護(hù)范圍。為了進(jìn)一步明確保護(hù)范圍,部分國(guó)家還要求申請(qǐng)人在其他文件中對(duì)于視圖加以說(shuō)明,比如日本及韓國(guó)均規(guī)定需要在其他文件中通過(guò)文字明確請(qǐng)求保護(hù)的部分。
以上是筆者對(duì)于國(guó)外局部外觀設(shè)計(jì)申請(qǐng)視圖主要提交形式的簡(jiǎn)要介紹,希望本文可以為創(chuàng)新主體向國(guó)外申請(qǐng)局部外觀設(shè)計(jì)提供參考借鑒。
來(lái)源:專利局外觀設(shè)計(jì)審查部微信
編輯:IPRdaily王穎 校對(duì):IPRdaily縱橫君
注:原文鏈接:國(guó)外局部外觀設(shè)計(jì)申請(qǐng)視圖(簡(jiǎn)介)(點(diǎn)擊標(biāo)題查看原文)
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