企業(yè)海外知識產(chǎn)權(quán)保護與布局（三十二）│ 李早陽：日本局部外觀制度介紹——申請篇

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“本文將對在日本提出局部外觀設(shè)計申請時的相關(guān)規(guī)定進行介紹?！?/strong>

來源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）

作者：李早陽中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所

前言

日本是世界第三大經(jīng)濟體，其市場規(guī)模較大，法律法規(guī)體系健全，與中國在各項經(jīng)濟文化活動中有著密切的聯(lián)系。

外觀設(shè)計在各個國家或地區(qū)的知識產(chǎn)權(quán)體系中都是一個重要的組成部分，在日本也不例外。日本在1888年公布了《意匠（即外觀設(shè)計）條例》，開始了對外觀設(shè)計的保護。根據(jù)日本現(xiàn)行的外觀設(shè)計法，外觀設(shè)計的保護期限為25年（自申請日起算），并且需要經(jīng)過實質(zhì)審查（即需要對新穎性和創(chuàng)造性進行審查）。關(guān)于外觀設(shè)計的保護期限，日本也經(jīng)歷了幾次改法。在2007年以前，外觀設(shè)計的保護期限為自注冊之日起15年。自2007至2020年，外觀設(shè)計的保護期限則為自注冊之日起20年。在2020年的最近一次改法中，外觀設(shè)計的保護期限進一步加長為自申請日起25年。可見，在日本，外觀設(shè)計權(quán)作為一項知識產(chǎn)權(quán)，正在越來越受到重視。在這里順帶一提的是，在日本的知識產(chǎn)權(quán)體系中，“專利”相當(dāng)于中國的“發(fā)明專利”，而外觀設(shè)計則是平行于“專利”的概念。與外觀設(shè)計所對應(yīng)的知識產(chǎn)權(quán)在日本稱為“意匠權(quán)”，筆者在此將其譯為“外觀設(shè)計權(quán)”，與外觀設(shè)計相關(guān)的規(guī)定則相應(yīng)地由專門的《外觀設(shè)計法》規(guī)定。無論是從外觀設(shè)計的保護期限、還是從對外觀設(shè)計的審查的嚴(yán)格程度來看，作為一項知識產(chǎn)權(quán)，外觀設(shè)計權(quán)在日本具有較高的價值。

日本在1998年修改外觀設(shè)計法時，新增了關(guān)于“局部外觀”的內(nèi)容，即，可以針對產(chǎn)品的非獨立流通的一個部分要求外觀設(shè)計權(quán)。由此，即可避免即使產(chǎn)品整體獲得外觀設(shè)計權(quán)、但由于該產(chǎn)品的僅一部分被第三方模仿并且該第三方規(guī)避了模仿產(chǎn)品整體、從而導(dǎo)致無法認(rèn)定該第三方的侵權(quán)行為的情況。對于外觀設(shè)計者來說，局部外觀設(shè)計制度的引入能夠為外觀設(shè)計的創(chuàng)造成果提供更全面和可靠的保護。

2020年10月17日，第十三屆全國人民代表大會常務(wù)委員會第二十二次會議通過修改《中華人民共和國專利法》的決定，自2021年6月1日起施行。本次修改的要點之一即為，將外觀設(shè)計的保護范圍擴展到了對產(chǎn)品局部的外觀設(shè)計的保護，由此開啟了對局部外觀設(shè)計保護的序幕。

日本早中國二十多年引入局部外觀設(shè)計的概念，針對局部外觀設(shè)計的申請、審查和侵權(quán)判定等，已形成成熟的體系。對于中國的申請人來說，不管是出于想要在日本進行外觀設(shè)計權(quán)的布局的考慮，還是從把握今后在中國的實踐中、與局部外觀設(shè)計相關(guān)的實施細(xì)則的發(fā)展方向的角度來看，日本局部外觀設(shè)計相關(guān)的規(guī)定和實踐，都值得了解和學(xué)習(xí)。

以下，本文將對在日本提出局部外觀設(shè)計申請時的相關(guān)規(guī)定進行介紹。

一、請求書的填寫

1.【部分意匠】欄的載明

在2019年5月1日之前，在請求書上需要載明【部分意匠】，即“局部外觀”。在2019年5月1日之后，則取消了該項目的記載，僅由在【外觀設(shè)計的說明】欄中的相關(guān)記載（見下文介紹）以及圖的繪制方式來判斷該項申請所要求保護的外觀設(shè)計為整體外觀設(shè)計、還是局部外觀設(shè)計。

2. 【外觀設(shè)計所涉及的產(chǎn)品】欄的填寫

此欄中需要填寫外觀設(shè)計所涉及的產(chǎn)品，相當(dāng)于中國的外觀設(shè)計申請中的產(chǎn)品名稱。需注意，此欄需要填入整體產(chǎn)品的名稱。例如，若此外觀設(shè)計所要求保護的部分為照相機的抓握部，則此欄需要填入“照相機”，而非“照相機的抓握部”、“抓握部”等。

3. 【外觀設(shè)計所涉及的產(chǎn)品的說明】欄的填寫

外觀設(shè)計所要求保護的部分的用途及作用原理為判斷兩個設(shè)計的相似性時的重要考慮因素，因此，在從圖中無法明確得知此外觀設(shè)計所要求保護的部分的用途及作用原理等的情況下，需要在該欄中填寫相應(yīng)的描述。若能用“參考圖”明確所要求保護的部分的用途，則用參考圖替代文字說明也可以。

此外，在從上述【外觀設(shè)計所涉及的產(chǎn)品】欄中所填寫的產(chǎn)品名稱無法明確得知該產(chǎn)品整體的用途的情況下，還需要在該欄中對該產(chǎn)品整體的用途等進行說明。

例如，在下方的示例中，此欄中填寫了“本產(chǎn)品在右側(cè)設(shè)置開關(guān)機構(gòu)，并且通過其使保護蓋旋轉(zhuǎn)來進行使用”。

4. 【外觀設(shè)計的說明】欄的填寫

在此欄中，需要載明此外觀設(shè)計的要求保護的部分與不要求保護的部分之間的區(qū)分方式。

例如，可以在此欄中填寫“實線表示的部分為要求保護的部分”、“點劃線為僅用于示出要求保護的部分和不要求保護部分之間的分界部”、“涂覆有紅色的部分以外的部分為要求保護的部分”，等等。

請求書的示例如下圖所示，其中，由紅框所框出的【部分意匠】一欄自2019年5月1日起取消。

二、圖的繪制

1.總體規(guī)則

（1）所提交的圖中需要示出包括該局部外觀設(shè)計申請所要求保護的部分的“整體產(chǎn)品”，并在圖中明確區(qū)分開要求保護的部分和不要求保護的部分。區(qū)分的方式主要有以下兩種：

1）通過實線和虛線來進行區(qū)分，例如，如下圖所示

2）通過涂覆色彩和不涂覆色彩、或通過涂覆不同的色彩來進行區(qū)分，例如，如下圖所示

（2）不能僅在參考圖中指定“要求保護的部分”。

（3）不能用指示線或粗線等框出一部分來指定“要求保護的部分”。

（4）在通過色彩區(qū)分要求保護的部分和不要求保護的部分的情況下，“不要求保護的部分”應(yīng)涂上“要求保護的部分”中所不包含的單一顏色。需要注意的是，若在進行區(qū)分時，將“要求保護的部分”著色，則該色彩也將構(gòu)成該項外觀設(shè)計的保護范圍的一部分。

2. 針對一些具體情況的規(guī)定

在日本的外觀設(shè)計法中，對圖的繪制的規(guī)定較為細(xì)致，對局部外觀設(shè)計的圖的繪制的相關(guān)規(guī)定也不例外。下面，將介紹針對局部外觀設(shè)計申請的圖的繪制的一些具體的規(guī)定。

（1）剖視圖的畫法

1）在外觀設(shè)計由線條圖表示的情況下，如下方立體圖所示，結(jié)合在【外觀設(shè)計的說明】欄中填寫的“實線表示的為要求保護的部分”的說明，應(yīng)可以明確區(qū)分開要求保護的部分和不要求保護的部分。在此基礎(chǔ)上，在相應(yīng)的剖視圖中，表示物體輪廓的線仍需要以實線和虛線加以區(qū)分，剖面線則不需要用實線/虛線加以區(qū)分，全部畫成實線即可，如下圖所示。

2）在外觀設(shè)計由渲染圖表示的情況下，剖視圖中的截面可以不著色，也可以著色。當(dāng)截面著色的情況下，該色彩應(yīng)為排除用于區(qū)分出“要求保護的部分”的色彩的單一色，并且需要在【外觀設(shè)計的說明】的欄中說明，該色彩僅用于示出截面的形狀。

a）例如，下圖示出了在截面不著色的情況下的剖視圖。在此情況下，只需要在【外觀設(shè)計的說明】的欄中說明“橙色表示的部分以外的部分為要求保護的部分”。

b）例如，下圖示出了在截面著色的情況下的剖視圖。在此情況下，則需要在【外觀設(shè)計的說明】的欄中說明“橙色表示的部分以外的部分為要求保護的部分，并且沿A-A線的放大剖視圖中所呈現(xiàn)的紅色僅用于示出截面的形狀”。

（2）“要求保護的部分”和“不要求保護的部分”的分界部的畫法

在要求保護的部分的輪廓線和產(chǎn)品本身的形狀線重合的情況下，只需要將要求保護的部分的輪廓線用實線表示即可。但是，如果需要在平坦的表面上區(qū)分出“要求保護的部分”和“不要求保護的部分”，則可能有以下幾種情況。

1）“要求保護的部分”和“不要求保護的部分”為不同的材質(zhì)

例如，在下圖的示例中，上半部分和下半部分為不同的材質(zhì)，并且上半部分為要求保護的部分。

在這種情況下，可以有以下兩種表現(xiàn)形式。

a)正常地繪制六面視圖，如下圖所示，并且在【外觀設(shè)計的說明】的欄中記載：實線所表示的為要求保護的部分，并且要求保護的部分下方的線除了表示要求保護的部分與不要求保護的部分之間的分界部之外，還表示不同材質(zhì)的分界部。

b）正常地繪制六面視圖，并且增加剖視圖，在剖視圖中用不同的剖面線表示不同的材質(zhì)，如下圖所示。

2）“要求保護的部分”和“不要求保護的部分”為相同的材質(zhì)、或者不存在實質(zhì)上的分界部，則分界部用點劃線表示，并且在【外觀設(shè)計的說明】的欄中記載“點劃線僅用于表示要求保護的部分和不要求保護的部分的分界部”。這種用點劃線標(biāo)識分界部的情況可以進一步分為以下兩種情況：

a）分界部本身為立體的，例如，如下圖所示，在左視圖、主視圖、右視圖和后視圖中分別用點劃線標(biāo)識出要求保護的部分和不要求保護的部分的分界部，并且在【外觀設(shè)計的說明】的欄中記載“實線所表示的部分為要求保護的部分，并且點劃線僅用于表示要求保護的部分和不要求保護的部分的分界部”。

b）分界部本身為平面的，例如，外觀設(shè)計申請所要求保護的部分為下圖中的3個突出部以及這3個突出部所處的平面的一部分。

在這種情況下，六面視圖如下表示，其中，在俯視圖中用點劃線標(biāo)識出了要求保護的部分和不要求保護的部分的分界部，并且在【外觀設(shè)計的說明】的欄中記載“點劃線所包圍的部分為要求保護的部分，點劃線僅用于表示要求保護的部分和不要求保護的部分的分界部”。

3）要求保護的部分和不要求保護的部分之間的分界部的表示不恰當(dāng)或不明確的情況例如有：未畫出表示分界部的線、用于表示分界部的線為虛線（與用于表示不要求保護的部分的線形相同），等等。例如在下圖中，用于表示分界部的線為虛線，這是不允許的。

（3）放大圖的畫法

1）在放大圖所在部分的外周緣為“要求保護的部分”的情況下，在放大圖中，該外周緣用實線框出，例如，如下圖所示：

2）在放大圖所在部分的外周緣為“不要求保護的部分”的情況下，在放大圖中，該外周緣用虛線框出，例如，如下圖所示：

（4）關(guān)于用于說明整體產(chǎn)品中的要求保護的部分的用途/作用的參考圖

如上所述，需要在【外觀設(shè)計所涉及的產(chǎn)品的說明】欄中記載該外觀設(shè)計申請所要求保護的部分的用途，若能用“參考圖”明確所要求保護的部分的用途，則用參考圖替代文字說明也可以。例如，若要求保護的部分為可操作部分，則可以提交示出該可操作部分的操作示意的參考圖，或者也可以提交注明了產(chǎn)品的相關(guān)部件的名稱的參考圖。例如，如下圖所示，在左下角和右下角的兩個參考圖中，示出了多個部件的名稱，以幫助理解所要求保護的部分的用途。

（5）關(guān)于“不要求保護的部分”的公開程度

原則上，需要能夠從申請人所提交的圖中得知要求保護的部分在整體產(chǎn)品中所在的位置、大小、范圍，因為這些要素對于兩個外觀設(shè)計的相似性判定是不可或缺的。

1）例如，在下圖的示例中，整體產(chǎn)品為手機，其中，“要求保護的部分”所在的位置是不確定的，因為不知道該“要求保護的部分”是在手機的正面還是背面，也不知道是在手機的按鍵側(cè)還是屏幕側(cè)。（需注意，在下圖示出的情況下，若遞交申請時只遞交了如下圖所示的兩個圖而導(dǎo)致要求保護的部分所在的位置不明確，理論上是無法彌補的，因為即使遞交的補充視圖中僅包括“不要求保護的部分”，也會被視為修改超范圍，不被接受。）

上述示例中的產(chǎn)品應(yīng)該至少如左下方或右下方的示例圖中那樣示出

2）在下圖的兩個示例中，根據(jù)一般消費者對產(chǎn)品本身的常識，可以推斷出要求保護的部分在整體產(chǎn)品中的位置、大小和范圍，則可以對不要求保護的部分進行省略。

（6）當(dāng)“要求保護的部分”為孔或洞時的畫法

孔或洞自身談不上占有一定空間的“產(chǎn)品”，但包圍孔或洞的壁的形狀可以要求保護，例如，如下圖的示例中所示。注意，在要保護的部分為孔的情況下，需要提交相應(yīng)的剖視圖或立體圖等，以明確該部分為“孔”，因為在僅有正投影視圖的情況下，可能無法確定實線所包圍的部分是孔還是圖案。

1）用剖視圖來明確“孔”的示例

2）用立體圖來明確“孔”的示例

（7）關(guān)于“僅示出不要求保護的部分”的視圖的省略

在進行局部外觀設(shè)計申請的情況下，只要所要求保護的部分的用途和功能、其在產(chǎn)品整體中所占據(jù)的位置、大小和范圍、以及其本身的形狀明確，即可省略“僅示出不要求保護的部分”的視圖。

1）例如，在下圖的示例中省略了后視圖。

2）例如，在下圖的示例中，要求保護的部分僅位于前表面上，并且通過以下的立體圖，可以明確所要求保護的部分的用途和功能、以及其在產(chǎn)品整體中所占據(jù)的位置、大小和范圍，并且所要求保護的部分本身的形狀明確，因此，省略了六面正投影視圖。

結(jié)語

日本的外觀設(shè)計的保護制度具有諸多自身的特色，在局部外觀設(shè)計方面，對申請文件、尤其是對圖的規(guī)定較為細(xì)致和完整，對于局部外觀設(shè)計制度處于起步階段的中國，具有一定的借鑒意義。此外，如上所述，日本外觀設(shè)計權(quán)的價值較高，對于有在海外進行專利布局的想法的申請人來說，日本外觀設(shè)計是值得重點考量的選擇。

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（原標(biāo)題：日本局部外觀制度介紹——申請篇）

來源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）

作者：李早陽中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所

編輯：IPRdaily趙甄校對：IPRdaily縱橫君

注：原文鏈接：企業(yè)海外知識產(chǎn)權(quán)保護與布局（三十二）│ 李早陽：日本局部外觀制度介紹——申請篇（點擊標(biāo)題查看原文）

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