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臨陣磨刀!必看專利代理人考試實(shí)務(wù)6大要點(diǎn)及4大撰寫注意事項(xiàng)

職場(chǎng)
縱橫君9年前
臨陣磨刀!必看專利代理人考試實(shí)務(wù)6大要點(diǎn)及4大撰寫注意事項(xiàng)

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原標(biāo)題:臨陣磨刀!必看專利代理人考試實(shí)務(wù)6大要點(diǎn)及4大撰寫注意事項(xiàng)


IPRdaily導(dǎo)讀今天是2016年全國(guó)專利代理人資格考試的日子,下面總結(jié)了專利代理人考試必考6大要點(diǎn)內(nèi)容、4大撰寫注意事項(xiàng)和4大答題規(guī)范,供考友們參考學(xué)習(xí)。



今天是2016年全國(guó)專利代理人資格考試的日子,下面總結(jié)了專利代理人考試必考6大要點(diǎn)內(nèi)容、4大撰寫注意事項(xiàng)和4大答題規(guī)范,供考友們參考學(xué)習(xí)。


一、必考內(nèi)容

無(wú)論考察哪種題型,都必然涉及到新穎性、創(chuàng)造性的論述。


1、不具有新穎性的論述(常見(jiàn)于無(wú)效請(qǐng)求、給客戶意見(jiàn)題型中)

 

(1) 現(xiàn)有技術(shù)影響新穎性


權(quán)利要求1要求保護(hù)一種……,對(duì)比文件1的公開(kāi)日是×年×月×日,早于本申請(qǐng)的申請(qǐng)日,可作為本申請(qǐng)的現(xiàn)有技術(shù)。對(duì)比文件1具體公開(kāi)了一種……,并具體公開(kāi)了如下技術(shù)特征(參見(jiàn)說(shuō)明書第×頁(yè)第×段至第×頁(yè)第×段以及圖×):


一種……【特征對(duì)比,按權(quán)利要求對(duì)部件的描述順序引入對(duì)比文件中部件的名稱、連接關(guān)系】(相當(dāng)于權(quán)利要求1……【對(duì)照權(quán)利要求的技術(shù)特征】)。


由此可見(jiàn),該權(quán)利要求所要求保護(hù)的技術(shù)方案與對(duì)比文件1所公開(kāi)的內(nèi)容相比,僅僅是文字表達(dá)方式上略有差別,技術(shù)方案實(shí)質(zhì)上相同,且兩者屬于相同的……領(lǐng)域,要解決的技術(shù)問(wèn)題相同和產(chǎn)生的效果相同,都是……,因此該權(quán)利要求1不具備新穎性,不符合專利法第二十二條第二款的規(guī)定。


權(quán)利要求×是權(quán)利要求×的從屬權(quán)利要求,對(duì)比文件1公開(kāi)了其附加技術(shù)特征:……。因此當(dāng)其引用的權(quán)利要求×不具備新穎性時(shí),該從屬權(quán)利要求也不具備專利法第二十二條第二款所規(guī)定的新穎性。


(2) 抵觸申請(qǐng)影響新穎性


權(quán)利要求1要求保護(hù)一種……,對(duì)比文件1是申請(qǐng)?jiān)谙?,公開(kāi)在后的中國(guó)專利申請(qǐng)文件(或?qū)@募?。對(duì)比文件1具體公開(kāi)了一種……,并具體公開(kāi)了如下技術(shù)特征(參見(jiàn)說(shuō)明書第×頁(yè)第×段至第×頁(yè)第×段以及圖×):一種【按權(quán)利要求對(duì)部件的描述順序引入對(duì)比文件的名稱】(相當(dāng)于權(quán)利要求1……【對(duì)照權(quán)利要求的技術(shù)特征】)。


由此可見(jiàn),該權(quán)利要求所要求保護(hù)的技術(shù)方案與對(duì)比文件1所公開(kāi)的內(nèi)容相比,僅僅是文字表達(dá)方式上略有差別,技術(shù)方案實(shí)質(zhì)上相同,且兩者屬于相同的……領(lǐng)域,要解決的技術(shù)問(wèn)題相同和產(chǎn)生的效果相同,都是……,因此對(duì)比文件1是該發(fā)明的抵觸申請(qǐng),該權(quán)利要求1不具備專利法第二十二條第二款規(guī)定的新穎性。


2、具有新穎性的論述(常見(jiàn)于撰寫后回答問(wèn)題,答復(fù)審查意見(jiàn)通知書,無(wú)效答辯,給客戶的意見(jiàn)題型中)


論述具有新穎性相對(duì)比較簡(jiǎn)單,答題得分點(diǎn)在于有幾份對(duì)比文件,就要論述幾次具有新穎性的原因。


答題時(shí),只要找出技術(shù)領(lǐng)域,技術(shù)特征,解決的技術(shù)問(wèn)題,效果任何一項(xiàng)不同,即可得出權(quán)利要求具有新穎性的結(jié)論。


比如,論述特征未被公開(kāi)的方式:


對(duì)比文件1沒(méi)有公開(kāi)“……”這一技術(shù)特征,因此權(quán)利要求1具有新穎性,符合專利法第二十二條第二款的規(guī)定。


3、不具有創(chuàng)造性的論述(常見(jiàn)于無(wú)效請(qǐng)求、給客戶意見(jiàn)題型中)


不具有創(chuàng)造性考試中一般都是兩份對(duì)比文件結(jié)合破壞權(quán)利要求的創(chuàng)造性。論述模板如下:


對(duì)比文件1和對(duì)比文件2都屬于現(xiàn)有技術(shù),可以用于評(píng)價(jià)專利申請(qǐng)權(quán)利要求的創(chuàng)造性。


對(duì)比文件1技術(shù)領(lǐng)域與本發(fā)明相同,公開(kāi)的特征也最多,(所要解決的技術(shù)問(wèn)題與本發(fā)明最為接近)技術(shù)效果也最為接近,因此對(duì)比文件1是最接近的現(xiàn)有技術(shù)。


對(duì)比文件1公開(kāi)了一種……,并在說(shuō)明書第×頁(yè)第×段至第×頁(yè)第×段以及圖×)具體公開(kāi)了以下的技術(shù)特征:【按照權(quán)利要求技術(shù)特征的順序引入對(duì)比文件的部件名稱和連接關(guān)系】(即,權(quán)利要求1中的××)……;


該權(quán)利要求與對(duì)比文件1相比,區(qū)別技術(shù)特征是:……。


基于上述區(qū)別技術(shù)特征可以確定,權(quán)利要求1相對(duì)于對(duì)比文件1實(shí)際要解決的技術(shù)問(wèn)題是……。


上述區(qū)別特征已被對(duì)比文件2公開(kāi)(參見(jiàn)對(duì)比文件2的第×頁(yè)第×段至第×頁(yè)第×段以及圖×),而且該特征在對(duì)比文件2中所起的作用與其在本發(fā)明中為解決其技術(shù)問(wèn)題所起的作用相同,都是……,也就是說(shuō)對(duì)比文件2給出了將該技術(shù)特征用于對(duì)比文件1以解決上述技術(shù)問(wèn)題的啟示,進(jìn)而使得本領(lǐng)域技術(shù)人員在面對(duì)……的技術(shù)問(wèn)題時(shí),有動(dòng)機(jī)將對(duì)比文件2與對(duì)比文件1結(jié)合起來(lái)構(gòu)成該權(quán)利要求所要求保護(hù)的技術(shù)方案。因此,該技術(shù)方案相對(duì)于對(duì)比文件1和對(duì)比文件2的結(jié)合是顯而易見(jiàn)的,權(quán)利要求1沒(méi)有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步,不具有創(chuàng)造性,不符合專利法第二十二條第三款的規(guī)定。


4、具有創(chuàng)造性的論述(常見(jiàn)于撰寫后回答問(wèn)題,答復(fù)審查意見(jiàn)通知書,無(wú)效答辯,給客戶的意見(jiàn)題型中),具有創(chuàng)造性有兩種常見(jiàn)論述模板:


(1)因技術(shù)方案不同而具有創(chuàng)造性


對(duì)比文件1公開(kāi)的技術(shù)內(nèi)容最多,與本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題最接近,因此對(duì)比文件1是本發(fā)明的最接近對(duì)比文件。


權(quán)利要求1與該對(duì)比文件1所披露內(nèi)容的區(qū)別在于:……,該特征能解決的技術(shù)問(wèn)題是……。對(duì)比文件1中未披露上述技術(shù)特征,也未給出解決上述技術(shù)問(wèn)題的啟示。


對(duì)比文件2也沒(méi)有公開(kāi)上述區(qū)別技術(shù)特征,即使對(duì)比文件2和對(duì)比文件1結(jié)合起來(lái),也解決不了上述問(wèn)題。另外,上述區(qū)別特征也不是公知常識(shí)。因此,權(quán)利要求1的技術(shù)方案相對(duì)于這兩篇對(duì)比文件是非顯而易見(jiàn)的,因此,該方案具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)。


由于采用上述結(jié)構(gòu),……,因此權(quán)利要求1的技術(shù)方案也具有顯著的進(jìn)步。綜上所述,權(quán)利要求1相對(duì)于上述兩項(xiàng)現(xiàn)有技術(shù)具有專利法第22條第3款規(guī)定的創(chuàng)造性。


(2)因區(qū)別特征的作用不同而具有創(chuàng)造性


由于對(duì)比文件1與本申請(qǐng)的技術(shù)領(lǐng)域相同,所解決的技術(shù)問(wèn)題相近,且公開(kāi)本申請(qǐng)的技術(shù)特征最多,因此可以認(rèn)為對(duì)比文件1是最接近的現(xiàn)有技術(shù)。


將權(quán)利要求1與對(duì)比文件1相比較可知,區(qū)別在于:……,由此可知本發(fā)明實(shí)際要解決的技術(shù)問(wèn)題是……。


對(duì)比文件1沒(méi)有解決上述技術(shù)問(wèn)題,也沒(méi)有給出解決上述技術(shù)問(wèn)題的任何啟示。


雖然對(duì)比文件2中所公開(kāi)……,但是,區(qū)別技術(shù)特征在對(duì)比文件2中所起的作用與本發(fā)明完全不同,因而不可能很容易地就想到……來(lái)解決最接近現(xiàn)有技術(shù)所存在的技術(shù)問(wèn)題,也就是說(shuō)對(duì)比文件2未給出解決本發(fā)明技術(shù)問(wèn)題的啟示,因而由這兩篇對(duì)比文件得到權(quán)利要求1的技術(shù)方案對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是非顯而易見(jiàn)的,具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)。


此外,權(quán)利要求1的技術(shù)方案能夠獲得……的效果,因而相對(duì)于這兩篇對(duì)比文件具有顯著的進(jìn)步。綜上所述,權(quán)利要求1相對(duì)于這兩篇對(duì)比文件具有專利法第22條第3款規(guī)定的創(chuàng)造性。


5、分案與合案的論述


(1)論述分案的理由


獨(dú)立權(quán)利要求1、X中均包含有“……”這一體現(xiàn)發(fā)明對(duì)現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻(xiàn)的特定技術(shù)特征,因此,這兩項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求在技術(shù)上相互關(guān)聯(lián),它們屬于一個(gè)總的發(fā)明構(gòu)思,符合《專利法》第三十一條第一款的規(guī)定,可以將它們合案申請(qǐng)。


(2)論述分案的理由


第一份專利申請(qǐng)的獨(dú)立權(quán)利要求1相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻(xiàn)的技術(shù)特征(或權(quán)利要求1的特定技術(shù)特征)為“……”。


第二份專利申請(qǐng)的獨(dú)立權(quán)利要求1相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻(xiàn)的技術(shù)特征為“……”。


由此可見(jiàn),兩個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求對(duì)現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻(xiàn)的技術(shù)特征(特征技術(shù)特征)既不相同,彼此之間在技術(shù)上也無(wú)相互關(guān)聯(lián),從而兩個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求之間并不包含相同或相應(yīng)的特定技術(shù)特征,不屬于一個(gè)總的發(fā)明構(gòu)思,彼此之間不具備單一性,因此應(yīng)當(dāng)分別作為兩份專利申請(qǐng)?zhí)岢觥?以有利于保護(hù)申請(qǐng)人利益)


6、缺少必要技術(shù)特征與專利法第二十六條三款


(1)缺少必要技術(shù)特征只能用于獨(dú)立權(quán)利要求的評(píng)述


專利法實(shí)施細(xì)則第二十條第二款的規(guī)定,獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)從整體上反映發(fā)明或者實(shí)用新型的技術(shù)方案,記載解決技術(shù)問(wèn)題的必要技術(shù)特征。


本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是……。說(shuō)明書中描述,通過(guò)……來(lái)解決上述技術(shù)問(wèn)題。因此,××是解決技術(shù)問(wèn)題的必要技術(shù)特征。權(quán)利要求1中未未記載上述必要技術(shù)特征,所以不符合專利法實(shí)施細(xì)則第二十條第二款的規(guī)定。


(2)專利法第二十六條第三款


專利法第二十六條第三款有兩方面的含義:不清楚和不支持。


考試中,挑出權(quán)利要求不清楚比較簡(jiǎn)單。如果是用不支持,需要想出一個(gè)涵蓋在權(quán)利要求概括范圍內(nèi)的例子,但是無(wú)法解決相應(yīng)的技術(shù)問(wèn)題。


以上模板已經(jīng)是精簡(jiǎn)過(guò)的,切不可再做進(jìn)一步精煉!


二、撰寫的注意事項(xiàng)


撰寫權(quán)利要求時(shí),注意判斷主題之間的邏輯關(guān)系,實(shí)施例之間的邏輯關(guān)系,發(fā)明點(diǎn)之間的邏輯關(guān)系。


撰寫步驟:


1、判斷主題


閱讀材料時(shí)首先判斷今年考試的技術(shù)交底書有幾個(gè)主題?每一個(gè)主題都要寫成一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求。一般來(lái)說(shuō),實(shí)務(wù)考題只涉及一個(gè)主題。


2、判斷發(fā)明點(diǎn)


起到基礎(chǔ)作用的區(qū)別特征是發(fā)明點(diǎn)。判斷區(qū)別特征時(shí)要注意,切勿對(duì)創(chuàng)造性要求過(guò)高。交底材料中,凡是特征未被公開(kāi),且有作用,都可以作為區(qū)別特征。區(qū)別特征可能會(huì)找到多個(gè),起到最基礎(chǔ)作用的區(qū)別特征是發(fā)明點(diǎn)。


3、一個(gè)發(fā)明點(diǎn)的處理


如果判斷出只有一個(gè)發(fā)明點(diǎn),繼續(xù)判斷發(fā)明點(diǎn)是一個(gè)實(shí)施例還是多個(gè)實(shí)施例。一個(gè)實(shí)施例不用考慮概括問(wèn)題,兩個(gè)以上實(shí)施例需要概括為一個(gè)權(quán)利要求。


4、并列發(fā)明點(diǎn)的處理


對(duì)于兩個(gè)以上并列發(fā)明點(diǎn),第一個(gè)發(fā)明點(diǎn)按照正常思路撰寫,第二個(gè)發(fā)明點(diǎn)做分案或者另案申請(qǐng)。


三、答題規(guī)范


1、思考后作答


用30分鐘至1小時(shí)熟悉技術(shù)內(nèi)容、看清試題要求,捋清思路尤其是看清試題說(shuō)明和答題位置,花10分鐘看清試題說(shuō)明,今年有哪些要求。按照要求思考答題內(nèi)容。


2、落筆無(wú)悔


筆試須保持卷面整潔、干凈,爭(zhēng)取給判卷人員良好印象,機(jī)試須記得保存文檔。不管筆試和機(jī)試都要合理分配每個(gè)題目的答題時(shí)間并嚴(yán)格執(zhí)行。


3、問(wèn)一答十


考試經(jīng)常問(wèn)題不甚明確。凡是知道的內(nèi)容,盡量多答。尤其是要注意回答的對(duì)象是專利復(fù)審委員會(huì)、專利局,還是客戶。給客戶回答問(wèn)題,注意要從概念、原理入手。


4、不糾結(jié)


(1)對(duì)于劃界問(wèn)題,不必糾結(jié),只要出現(xiàn)“其特征在于”,大致正確即可。


(2)必要技術(shù)特征


必要技術(shù)特征根據(jù)發(fā)明點(diǎn)確定的技術(shù)問(wèn)題而定,在發(fā)明點(diǎn)判斷正確的情況下,少寫幾個(gè)必要技術(shù)特征,不會(huì)導(dǎo)致整個(gè)考試不及格。



來(lái)源:盤古網(wǎng)

編輯:IPRdaily趙珍          校對(duì):IPRdaily縱橫君


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