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索賠9272萬(wàn)元!電磁屏蔽膜行業(yè)掀起專利大戰(zhàn)?。ㄅ袥Q書全文)

法律
豆豆7年前
索賠9272萬(wàn)元!電磁屏蔽膜行業(yè)掀起專利大戰(zhàn)!(判決書全文)

索賠9272萬(wàn)元!電磁屏蔽膜行業(yè)掀起專利大戰(zhàn)!(判決書全文)

#文章僅代表作者觀點(diǎn),文章不代表IPRdaily立場(chǎng)#


來(lái)源:IPRdaily中文網(wǎng)(IPRdaily.cn)

原標(biāo)題:9272萬(wàn)元專利侵權(quán)案!電磁屏蔽膜行業(yè)掀起專利大戰(zhàn)?。ǜ剑号袥Q書)


近日,國(guó)內(nèi)知名電磁屏蔽膜產(chǎn)品制造商廣州方邦電子股份有限公司被電磁屏蔽膜行業(yè)全球市場(chǎng)規(guī)模最大的日本企業(yè)大自達(dá)電線股份有限公司起訴專利權(quán)侵權(quán)案二審在廣東高級(jí)人民法院審理結(jié)束。廣東高級(jí)人民法院最終判決維持一審原判,駁回大自達(dá)公司的全部訴訟請(qǐng)求。據(jù)了解,由于涉案雙方均是業(yè)界知名企業(yè),且該案索賠額達(dá)9272萬(wàn)元,數(shù)額巨大,該案自立案起就受到廣泛關(guān)注,因?yàn)樵摪傅牡湫鸵饬x及影響,此案一審也被收錄為2017廣州法院知識(shí)產(chǎn)權(quán)十大典型案例之一。


一、案情簡(jiǎn)介


大自達(dá)電線股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱大自達(dá)公司)和廣州方邦電子股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱方邦公司)均是電磁屏蔽膜行業(yè)全球市場(chǎng)規(guī)模排名前三的企業(yè)。


2017年1月6日,因認(rèn)為廣州方邦電子股份有限公司(下稱方邦公司)生產(chǎn)銷售的屏蔽膜產(chǎn)品侵犯其200880101719.7號(hào)發(fā)明專利,方邦電子的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手大自達(dá)電線股份有限公司在廣州知識(shí)產(chǎn)權(quán)法院起訴方邦電子專利侵權(quán)。


大自達(dá)公司是涉案“印刷布線板用屏蔽膜以及印刷布線板”發(fā)明專利的權(quán)利人。大自達(dá)公司認(rèn)為方邦公司制造、銷售的8款屏蔽膜產(chǎn)品侵害其涉案發(fā)明專利權(quán),據(jù)此起訴請(qǐng)求判令方邦公司承擔(dān)停止侵權(quán)、賠償經(jīng)濟(jì)損失9200萬(wàn)元、合理維權(quán)支出72萬(wàn)元等民事責(zé)任。


廣州知識(shí)產(chǎn)權(quán)法院經(jīng)過(guò)證據(jù)保全、傳喚鑒定人、開(kāi)庭審理、咨詢技術(shù)調(diào)查官等合法程序,平等對(duì)待國(guó)內(nèi)外當(dāng)事人,依法保護(hù)雙方在訴訟中的權(quán)利,公正審慎地進(jìn)行審理。經(jīng)審理后于2017年7月21日作出一審判決,認(rèn)定被訴侵權(quán)產(chǎn)品未落入涉案專利的權(quán)利要求保護(hù)范圍,方邦公司不構(gòu)成侵權(quán),駁回原告大自達(dá)公司的全部訴訟請(qǐng)求,并由大自達(dá)公司負(fù)擔(dān)案件受理費(fèi)50.54萬(wàn)元。


大自達(dá)公司不服,向廣東省高級(jí)人民法院提起上訴。


2018年3月26日,廣東高院就該案作出二審判決,駁回大自達(dá)公司上訴,維持一審原判。


二、案件關(guān)鍵點(diǎn)梳理


雙方當(dāng)事人除了對(duì)被訴侵權(quán)產(chǎn)品所涉第一金屬層是否以波紋結(jié)構(gòu)的方式形成這一技術(shù)特征存在爭(zhēng)議外,對(duì)于被訴侵權(quán)產(chǎn)品具有其他被訴技術(shù)特征并無(wú)異議。


因此如何解釋該特征并進(jìn)而明確涉案專利權(quán)的邊界是本案的關(guān)鍵點(diǎn)。


經(jīng)查明,涉案發(fā)明專利申請(qǐng)時(shí)在提交了原始申請(qǐng)文件后對(duì)權(quán)利要求進(jìn)行了修改,將涉案爭(zhēng)議特征從“第一金屬層以沿著所述絕緣層的單面表面成為波紋結(jié)構(gòu)的方式形成”修改為“第一金屬層的兩面沿著所述絕緣層的單面表面形成”。國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局對(duì)此發(fā)出審查意見(jiàn)通知書,指出原申請(qǐng)文件僅記載了波紋結(jié)構(gòu)的第一金屬層和大致平坦結(jié)構(gòu)的第一金屬層兩種實(shí)施例,沒(méi)有給出第一金屬層以其它方式(比如鋸齒形或連續(xù)的凹凸形)的形成結(jié)構(gòu)等內(nèi)容,認(rèn)為申請(qǐng)人的修改超出了原說(shuō)明書和權(quán)利要求書記載的范圍;同時(shí)要求申請(qǐng)人再次修改時(shí)應(yīng)對(duì)通知書中提出的所有問(wèn)題逐一詳細(xì)地作出說(shuō)明。


于是,申請(qǐng)人將涉案爭(zhēng)議特征再次修改成“所述第一金屬層以沿著所述絕緣層的所述單面表面成為波紋結(jié)構(gòu)的方式形成”;并稱通過(guò)上述修改,權(quán)利要求記載技術(shù)方案與原說(shuō)明書記載的內(nèi)容一致。之后,涉案專利申請(qǐng)獲得授權(quán)。


一審法院認(rèn)為,在涉案專利申請(qǐng)文件審查過(guò)程中,國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專門指出申請(qǐng)人修改后的涉案爭(zhēng)議特征除了第一金屬層以波紋結(jié)構(gòu)的方式形成外還包含了第一金屬層以其它方式(比如鋸齒形或連續(xù)的凹凸形)的形成結(jié)構(gòu),該部分修改超出了原申請(qǐng)文件記載范圍。


基于此,若申請(qǐng)人不接受上述審查意見(jiàn),應(yīng)當(dāng)逐一詳細(xì)作出相應(yīng)的解釋和說(shuō)明;但申請(qǐng)人同意審查意見(jiàn)并對(duì)權(quán)利要求再次修改,對(duì)審查意見(jiàn)未作任何反駁。


因此,根據(jù)上述涉案專利審查的過(guò)程及內(nèi)容,結(jié)合涉案專利說(shuō)明書、附圖以及工具書、教科書等公知文獻(xiàn),法院認(rèn)定涉案專利爭(zhēng)議特征第一金屬層的波紋結(jié)構(gòu)應(yīng)解釋為不應(yīng)當(dāng)包括隨機(jī)變化的、無(wú)規(guī)律高低起伏的連續(xù)凹凸形結(jié)構(gòu)。


而方邦公司制造、銷售的屏蔽膜產(chǎn)品的第一金屬層的結(jié)構(gòu)是隨機(jī)變化的、無(wú)規(guī)律高低起伏的連續(xù)凹凸形結(jié)構(gòu),因此不落入涉案發(fā)明專利權(quán)的保護(hù)范圍。


三、案件啟示


我國(guó)經(jīng)濟(jì)已經(jīng)由高速增長(zhǎng)階段轉(zhuǎn)向高質(zhì)量發(fā)展階段,其中重點(diǎn)之一就是要在高科技的關(guān)鍵領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)核心技術(shù)的自主創(chuàng)新和突破。中國(guó)的高科技企業(yè)在彎道超車的過(guò)程中必然會(huì)遭遇國(guó)際跨國(guó)巨頭的阻擊。因此,中國(guó)的高科技企業(yè)除了在自主創(chuàng)新上要加大投入外,如何應(yīng)對(duì)國(guó)際跨國(guó)巨頭的打壓也是非常重要的課題。


本案訴訟的結(jié)果回答了在電磁屏蔽膜行業(yè)全球市場(chǎng)規(guī)模排名靠前的中國(guó)企業(yè)制造、銷售的產(chǎn)品中使用的核心技術(shù)是屬于我國(guó)企業(yè)自主創(chuàng)新還是侵害日本企業(yè)發(fā)明專利權(quán)的問(wèn)題,該案結(jié)果將給全球相關(guān)行業(yè)格局帶來(lái)深遠(yuǎn)影響。更重要的是,該案將給中國(guó)的高科技企業(yè)如何應(yīng)對(duì)國(guó)際跨國(guó)巨頭提起的專利訴訟提供非常有益的借鑒和參考。


就本案來(lái)說(shuō),法院在審理中對(duì)于發(fā)明專利權(quán)利要求的爭(zhēng)議技術(shù)特征進(jìn)行解釋時(shí),除了運(yùn)用說(shuō)明書、附圖及其他相關(guān)權(quán)利要求以外,還結(jié)合專利審查檔案進(jìn)行解釋。


通過(guò)審查專利審查檔案的內(nèi)容,可以明確申請(qǐng)人在專利申請(qǐng)過(guò)程中對(duì)于專利權(quán)保護(hù)范圍所作的真實(shí)意思表示與客觀行為,確定國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局與申請(qǐng)人在劃定專利權(quán)邊界上達(dá)成了何種一致的意見(jiàn),并對(duì)社會(huì)公眾形成了何種公示作用,從而使法院認(rèn)定的專利權(quán)保護(hù)范圍符合專利權(quán)產(chǎn)生時(shí)所公示的邊界,符合國(guó)家授予、保護(hù)這種專有性、壟斷性權(quán)利的初衷,如此才能為社會(huì)公眾提供明確的法律預(yù)期,避免不當(dāng)壓縮社會(huì)公眾對(duì)于公有技術(shù)自由運(yùn)用的空間。


與此相對(duì)應(yīng)的,在申請(qǐng)發(fā)明專利的過(guò)程中,申請(qǐng)人如不接受相關(guān)審查意見(jiàn),應(yīng)當(dāng)詳細(xì)地做出相應(yīng)說(shuō)明回應(yīng),或者在進(jìn)一步修改時(shí)清晰、合理地對(duì)相關(guān)技術(shù)特征進(jìn)行限定或解釋;在接受相關(guān)審查意見(jiàn)獲得專利授權(quán)后,權(quán)利人卻在侵權(quán)訴訟中主張與申請(qǐng)時(shí)所同意的審查意見(jiàn)相左的意見(jiàn),顯然有違誠(chéng)實(shí)信用原則,不應(yīng)得到法院的支持。



附:判決書全文


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編輯:IPRdaily趙珍          校對(duì):IPRdaily縱橫君


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