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假從屬真獨立?專利權(quán)利要求也許沒你想得那么簡單

行業(yè)
納暮2年前
假從屬真獨立?專利權(quán)利要求也許沒你想得那么簡單

#本文僅代表作者觀點,不代表IPRdaily立場#


“假從屬真獨立權(quán)利要求,如何進(jìn)行司法認(rèn)定?”


假從屬真獨立?專利權(quán)利要求也許沒你想得那么簡單


“假從屬真獨立”權(quán)利要求如何進(jìn)行司法認(rèn)定?日前,北京知識產(chǎn)權(quán)法院審結(jié)了一起專利權(quán)無效行政糾紛的案件,和小編一起來看看吧!


案情簡介


被訴決定系被告國家知識產(chǎn)權(quán)局針對原告K公司就第三人張某擁有的專利號為201310390582.4、名稱為“磁吸式直通組合型地漏”的發(fā)明專利(簡稱涉案專利)提出的無效宣告請求而作出。國家知識產(chǎn)權(quán)局在被訴決定中認(rèn)定,涉案專利符合《中華人民共和國專利法》(簡稱專利法)第二十六條第四款、第二十二條第二款及第三款,以及《中華人民共和國專利法實施細(xì)則》第二十條第二款等規(guī)定,故維持涉案專利權(quán)有效。


假從屬真獨立?專利權(quán)利要求也許沒你想得那么簡單

磁吸式直通組合型地漏圖


原告K公司不服被訴決定,向北京知識產(chǎn)權(quán)法院提起訴訟稱,權(quán)利要求5引用權(quán)利要求1導(dǎo)致保護(hù)范圍不清楚,且權(quán)利要求5不具備創(chuàng)造性,違反了專利法第二十六條第四款、第二十二條第三款的規(guī)定,因此請求法院撤銷被訴決定并判令被告重新作出審查決定。


其中關(guān)于保護(hù)范圍不清楚的問題,原告認(rèn)為:


(1)被訴決定根據(jù)說明書附圖10、11的實施例與附圖1、2對應(yīng)的實施例為并列關(guān)系,從而得出權(quán)利要求5與權(quán)利要求1是并列關(guān)系,該種確定方法違反法律規(guī)定。權(quán)利要求5的撰寫方式是從屬權(quán)利要求,因此應(yīng)當(dāng)按照權(quán)利要求1的從屬權(quán)利要求來確定權(quán)利要求5技術(shù)方案包含的技術(shù)特征。


(2)權(quán)利要求5進(jìn)一步限定的技術(shù)特征不僅與權(quán)利要求1中關(guān)于內(nèi)外磁條磁極分布和相對位置的技術(shù)特征矛盾,而且從形式上看還存在權(quán)利要求1的技術(shù)方案在權(quán)利要求5中被重復(fù)保護(hù)的問題,因此不符合“清楚”的要求。


被告國家知識產(chǎn)權(quán)局不認(rèn)可原告的主張,認(rèn)為被訴決定認(rèn)定事實清楚,適用法律法規(guī)正確,審理程序合法,審查結(jié)論正確,原告的訴訟理由不能成立,請求駁回原告的訴訟請求。


第三人張某未陳述意見。


調(diào)查與處理


涉案專利系專利號為201310390582.4、名稱為“磁吸式直通組合型地漏”的發(fā)明專利,申請日為2013年9月2日,優(yōu)先權(quán)日為2013年8月19日,授權(quán)公告日為2014年10月15日,專利權(quán)人為張某。


涉案專利授權(quán)公告的權(quán)利要求1、5內(nèi)容如下:


“1.一種磁吸式直通組合型地漏,包括地漏本體和設(shè)置在地漏本體下出口的帶導(dǎo)桿的可上下移動的密封蓋,所述地漏本體中間通過多根連接條設(shè)置一安裝柱,其特征在于:所述安裝柱中設(shè)有安裝孔,安裝孔的孔壁上設(shè)有至少一根外磁條,各外磁條相對安裝孔中心呈圓周分布;所述密封蓋的導(dǎo)桿末端伸入到安裝孔中,導(dǎo)桿上安裝有至少一根內(nèi)磁條,各內(nèi)磁條在所述外磁條的上推磁力作用下產(chǎn)生上移趨勢而使導(dǎo)桿上的密封蓋封住地漏本體的下出口;所述外磁條的磁極分布在上下兩端,內(nèi)磁條的磁極也分布在上下兩端,且內(nèi)外磁條同端的磁極相異;不排水時內(nèi)外磁條在兩端磁極相異相吸的作用下呈并列狀態(tài)或小錯位狀態(tài)而使密封蓋封住地漏本體的下出口;在排水時所述密封蓋受水壓作用下移打開,帶動內(nèi)磁條進(jìn)一步下移克服兩端磁極吸力,但內(nèi)磁條相對外磁條的最大錯位距離不會超過外磁條的整個長度。”


“5.如權(quán)利要求1所述的一種磁吸式直通組合型地漏,其特征在于:或者所述外磁條的磁極分布在內(nèi)外兩側(cè),內(nèi)磁條的磁極分布在上下兩端,且外磁條的內(nèi)端磁極與內(nèi)磁條的上端磁極相同,外磁條的內(nèi)端磁極與內(nèi)磁條的下端磁極相異;所述內(nèi)磁條頂端隨密封蓋導(dǎo)桿下移到極限位置時其高度不低于外磁條的頂端高度?!?br/>


針對涉案專利,K公司于2020年6月15日向國家知識產(chǎn)權(quán)局提出無效宣告請求。


經(jīng)形式審查合格,國家知識產(chǎn)權(quán)局于2020年6月30日依法受理了上述無效宣告請求。2021年1月15日,國家知識產(chǎn)權(quán)局作出被訴決定,維持本專利權(quán)有效。


北京知識產(chǎn)權(quán)法院于2023年3月30日作出(2021)京73行初4933號行政判決,認(rèn)定原告關(guān)于權(quán)利要求5保護(hù)范圍不清楚以及不具備創(chuàng)造性的理由均不能成立,故判決駁回原告K公司的訴訟請求。宣判后,原告K公司未提出上訴,一審判決已發(fā)生法律效力。


法律分析


專利法第二十六條第四款規(guī)定,權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)以說明書為依據(jù),清楚、簡要地限定要求專利保護(hù)的范圍。


本案中,原告主張權(quán)利要求5引用權(quán)利要求1導(dǎo)致保護(hù)范圍不清楚,理由在于:


第一,被訴決定根據(jù)說明書附圖10、11的實施例與附圖1、2對應(yīng)的實施例為并列關(guān)系,從而得出權(quán)利要求5與權(quán)利要求1是并列關(guān)系,該種確定方法違反法律規(guī)定。權(quán)利要求5的撰寫方式是從屬權(quán)利要求,因此應(yīng)當(dāng)按照權(quán)利要求1的從屬權(quán)利要求來確定權(quán)利要求5技術(shù)方案包含的技術(shù)特征。


第二,權(quán)利要求5進(jìn)一步限定的技術(shù)特征不僅與權(quán)利要求1中關(guān)于內(nèi)外磁條磁極分布和相對位置的技術(shù)特征矛盾,而且從形式上看還存在權(quán)利要求1的技術(shù)方案在權(quán)利要求5中被重復(fù)保護(hù)的問題,因此不符合“清楚”的要求。


法院認(rèn)為,權(quán)利要求1為獨立權(quán)利要求,其技術(shù)特征分為兩部分,第一部分“包括地漏本體……封住地漏本體的下出口”限定了磁吸式直通組合型地漏包括地漏本體、密封蓋和內(nèi)外磁條以及地漏本體、密封蓋和內(nèi)外磁條的結(jié)構(gòu)和相互位置關(guān)系,第二部分“所述外磁條的磁極分布在上下兩端……不會超過外磁條的整個長度”限定了內(nèi)外磁條的磁極分布以及相對位置設(shè)置。


權(quán)利要求5引用權(quán)利要求1,“或者”之后的技術(shù)特征“所述外磁條的磁極分布在內(nèi)外兩側(cè)……不低于外磁條的頂端高度”限定了不同于權(quán)利要求1的內(nèi)外磁條的磁極分布以及相對位置設(shè)置。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員根據(jù)權(quán)利要求書的記載內(nèi)容,可以直接地、毫無疑義地確定,權(quán)利要求5“或者”之后的技術(shù)特征與權(quán)利要求1第二部分的技術(shù)特征應(yīng)是并列關(guān)系,即權(quán)利要求5要求保護(hù)的技術(shù)方案實質(zhì)上包括權(quán)利要求1的第一部分技術(shù)特征“包括地漏本體……封住地漏本體的下出口”以及權(quán)利要求5的技術(shù)特征“所述外磁條的磁極分布在內(nèi)外兩側(cè)……不低于外磁條的頂端高度”兩部分。


因此,權(quán)利要求5雖然在撰寫形式上引用權(quán)利要求1,但其實際上是與權(quán)利要求1并列的獨立權(quán)利要求,其所限定的保護(hù)范圍是清楚的。而且該種撰寫方式亦符合法律規(guī)定,并不能僅僅基于撰寫形式就判定權(quán)利要求5為從屬權(quán)利要求。


此外,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在閱讀本專利說明書以后也能夠清楚,權(quán)利要求1的技術(shù)方案對應(yīng)于說明書附圖1和2的實施例,權(quán)利要求5的技術(shù)方案對應(yīng)于說明書附圖10和11的實施例。綜上,原告關(guān)于權(quán)利要求5引用權(quán)利要求1導(dǎo)致保護(hù)范圍不清楚,違反專利法第二十六條第四款規(guī)定的理由均不能成立,法院不予支持。


法官提示


關(guān)于從屬權(quán)利要求,專利法實施細(xì)則第二十條第三款規(guī)定:“從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)用附加的技術(shù)特征,對引用的權(quán)利要求作進(jìn)一步限定?!备鶕?jù)上述規(guī)定,如果一項權(quán)利要求包含了所引用的權(quán)利要求中的所有技術(shù)特征,且對該引用的權(quán)利要求的技術(shù)方案作了進(jìn)一步的限定,則該權(quán)利要求為從屬權(quán)利要求。由于從屬權(quán)利要求用附加的技術(shù)特征對所引用的權(quán)利要求作了進(jìn)一步的限定,所以其保護(hù)范圍落在其所引用的權(quán)利要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。


通常情況下,對于采用引用關(guān)系方式撰寫的權(quán)利要求,一般應(yīng)當(dāng)推定其為從屬權(quán)利要求,但同時應(yīng)當(dāng)注意到,在某些情況下也存在例外情形,即“假從屬真獨立”的權(quán)利要求(形式上為從屬權(quán)利要求而實質(zhì)上是獨立權(quán)利要求)。


對此,《專利審查指南》第二部分第二章3.1.2中規(guī)定:“在某些情況下,形式上的從屬權(quán)利要求(即其包含有從屬權(quán)利要求的引用部分),實質(zhì)上不一定是從屬權(quán)利要求。例如,獨立權(quán)利要求1為:‘包括特征X的機(jī)床’。在后的另一項權(quán)利要求為:‘根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)床,其特征在于用特征Y代替特征X’。在這種情況下,后一權(quán)利要求也是獨立權(quán)利要求。審查員不得僅從撰寫的形式上判定在后的權(quán)利要求為從屬權(quán)利要求?!?br/>


第二部分第六章2.2.2.3中也規(guī)定:“應(yīng)當(dāng)注意,在某些情況下,形式上的從屬權(quán)利要求,實際上是獨立權(quán)利要求……例如,權(quán)利要求1是一種接觸器,具有特征A、B和C;權(quán)利要求2是一種權(quán)利要求1的接觸器,而其中特征C由特征D代替。由于權(quán)利要求2并沒有包括權(quán)利要求1的全部特征,因此不是從屬權(quán)利要求,而是獨立權(quán)利要求?!?br/>


本案中,權(quán)利要求5雖然在撰寫形式上引用權(quán)利要求1,但其實際上是與權(quán)利要求1并列的獨立權(quán)利要求,其所限定的保護(hù)范圍是清楚的。而且該種撰寫方式亦符合法律規(guī)定,并不能僅僅基于撰寫形式就判定權(quán)利要求5為從屬權(quán)利要求。


(原標(biāo)題:假從屬真獨立?專利權(quán)利要求也許沒你想得那么簡單 | 以案釋法)


來源:知產(chǎn)北京

作者:陳月

供稿:審判第一庭

編輯:IPRdaily趙甄          校對:IPRdaily縱橫君


注:原文鏈接假從屬真獨立?專利權(quán)利要求也許沒你想得那么簡單點擊標(biāo)題查看原文)


假從屬真獨立?專利權(quán)利要求也許沒你想得那么簡單

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