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作者:閆曉樂 李曉敏 北京品源專利代理有限公司
原標(biāo)題:淺談關(guān)于專利申請文件中權(quán)利要求書的撰寫
摘要:本文對專利申請文件中權(quán)利要求書的撰寫要求、撰寫步驟以及注意事項(xiàng)進(jìn)行了詳細(xì)介紹。
關(guān)鍵詞:專利申請 權(quán)利要求書 權(quán)利要求
一、引言
在包括請求書、權(quán)利要求書、說明書(必要時(shí)應(yīng)當(dāng)有附圖)及其摘要等一系列文件的專利申請文件中,權(quán)利要求書作為法律文件之一無疑起著非常重要的作用。權(quán)利要求書本質(zhì)的作用之一在于確立專利權(quán)的保護(hù)范圍,無論是專利的代理、審查、推廣,還是在無效宣告及侵權(quán)訴訟等程序中,都是以權(quán)利要求書所提出的技術(shù)方案為基礎(chǔ)[1]。由此可以看出,撰寫出高質(zhì)量的權(quán)利要求書對于專利新申請是十分重要的[2]。有質(zhì)量的專利就是有效的專利,而對專利質(zhì)量的評(píng)價(jià)主要分為技術(shù)評(píng)價(jià)、法律評(píng)價(jià)和市場評(píng)價(jià)三個(gè)指標(biāo)。通過專利申請文件撰寫的技巧,能夠?qū)δ承@|(zhì)量指標(biāo)進(jìn)行改進(jìn)。
專利的保護(hù)范圍由權(quán)利要求進(jìn)行限定,而權(quán)利要求的限定具有廣度與深度兩個(gè)維度,一項(xiàng)權(quán)利要求本身的保護(hù)范圍,更多的是體現(xiàn)廣度,一項(xiàng)專利或其申請中權(quán)利要求數(shù)量的多少,體現(xiàn)了申請人在深度這一維度的策略性布局。
二、專利申請權(quán)利要求書的概述
《專利法》第59條第1款規(guī)定:發(fā)明或者實(shí)用新型專利權(quán)的保護(hù)范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準(zhǔn),說明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容[3]。因此,權(quán)利要求書是確定專利權(quán)保護(hù)范圍的依據(jù),也是判斷他人是否侵權(quán)的依據(jù)。
權(quán)利要求書和權(quán)利要求是兩個(gè)不同的概念,不能混淆,更不能簡單的劃等號(hào)。權(quán)利要求書是專利申請人為獲取專利權(quán)而撰寫并向?qū)@姓块T提交的一項(xiàng)重要文件。權(quán)利要求則是指權(quán)利要求書中記載的具體的技術(shù)特征,一項(xiàng)權(quán)利要求書中可以包含多個(gè)權(quán)利要求。權(quán)利要求書是權(quán)利要求的載體。
專利申請獲得授權(quán)后,權(quán)利要求是作為限定專利保護(hù)范圍的依據(jù),其對專利的概括程度與專利保護(hù)范圍的大小有密切關(guān)系。為了充分保護(hù)申請人的利益,權(quán)利要求應(yīng)能夠謀求盡可能大的保護(hù)范圍。一般而言,權(quán)利要求數(shù)量越多,專利的保護(hù)范圍越大,說明專利的原創(chuàng)性越高,專利質(zhì)量也越高,同時(shí)遭遇侵權(quán)和訴訟的頻率也越高[4]。
三、關(guān)于專利申請權(quán)利要求書的撰寫
權(quán)利要求的撰寫有多種撰寫方式,應(yīng)當(dāng)要和技術(shù)交底材料的內(nèi)容相適應(yīng)[5]。
1.撰寫前排除明顯不能獲得專利保護(hù)的主題
撰寫以前,首先要排除不符合《專利法》第2條有關(guān)發(fā)明或者實(shí)用新型的定義的主題,排除明顯屬于《專利法》第5條或者第25條不能授予專利權(quán)的客體,排除明顯不符合《專利法》第22條第4款有關(guān)實(shí)用性規(guī)定的主題。
2. 撰寫要求
(1)權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)包括獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求(《專利法實(shí)施細(xì)則》第20條第1款)。
(2)獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)滿足下列要求:①在合理的前提下具有較寬的保護(hù)范圍,能夠最大限度地體現(xiàn)申請人的而利益;②清楚簡明地限定其保護(hù)范圍(《專利法》第26條第4款);③記載解決技術(shù)問題的全部必要技術(shù)特征(《專利法實(shí)施細(xì)則》第20條第2款);④對于現(xiàn)有技術(shù)具備新穎性和創(chuàng)造性(《專利法》第22條第2款、第3款);⑤符合《專利法》及《專利法實(shí)施細(xì)則》關(guān)于獨(dú)立權(quán)利要求的其他規(guī)定。
(3)從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)滿足下列要求:①從屬權(quán)利要求的數(shù)量適當(dāng)、合理;②與被引用的權(quán)利要求之間有清楚的邏輯關(guān)系(《專利法》第26條第4款、《專利法實(shí)施細(xì)則》第22條);③當(dāng)授權(quán)后面臨不得不縮小權(quán)利要求保護(hù)范圍的情況時(shí),能提供充分的修改余地;④符合《專利法》及《專利法實(shí)施細(xì)則》關(guān)于從屬權(quán)利要求的其他規(guī)定。
(4)撰寫多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求的,多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求之間應(yīng)當(dāng)具有單一性。
3. 權(quán)利要求撰寫的方式
(1)不考慮概括的撰寫方式
撰寫的核心任務(wù)是找到技術(shù)交底材料中的區(qū)別技術(shù)特征,并圍繞區(qū)別技術(shù)特征撰寫權(quán)利要求書,將起到基礎(chǔ)、根本作用的區(qū)別技術(shù)特征作為發(fā)明點(diǎn)。技術(shù)交底材料如果針對發(fā)明點(diǎn)只有一個(gè)實(shí)施例,一般不需要考慮對實(shí)施例的概括。
1)不需要對多個(gè)實(shí)施例的概括情形
以下幾種情況,一般不需要對涉及同一技術(shù)內(nèi)容幾個(gè)實(shí)施方式進(jìn)行概括:①如果技術(shù)交底材料只給出一個(gè)技術(shù)主題之下的一個(gè)實(shí)施例的情況,一般不進(jìn)行上位概括或者功能性概括;②如果技術(shù)交底材料給出了多個(gè)實(shí)施例,但是多個(gè)實(shí)施例的之間為主從關(guān)系,可針對基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品撰寫?yīng)毩?quán)利要求(不需要概括),而將其他幾種結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品作為該獨(dú)立權(quán)利要求的從屬權(quán)利要求撰寫;③如果交底材料中明確給出了上位或者功能概括的方式,也不需要考慮多個(gè)實(shí)施例的概括問題。
2)權(quán)利要求不需要概括的情形下的撰寫步驟
針對不需要概括的權(quán)利要求,通過以下6個(gè)步驟撰寫:
第一步:技術(shù)特征分析。第一步技術(shù)特征分析中包括兩個(gè)方面:列出全部技術(shù)特征;分析技術(shù)特征之間的邏輯關(guān)系。
第二步:找發(fā)明點(diǎn)。找發(fā)明點(diǎn)的步驟中包括兩個(gè)方面:技術(shù)對比,找出區(qū)別技術(shù)特征;在區(qū)別技術(shù)特征中確定發(fā)明點(diǎn)。
第三步:確定所要解決的技術(shù)問題。在第三步中,應(yīng)當(dāng)根據(jù)第二步中確定的發(fā)明點(diǎn)所產(chǎn)生的技術(shù)效果,與最接近的現(xiàn)有技術(shù)對比,確定發(fā)明所要解決的技術(shù)問題。
第四步:確定必要技術(shù)特征。必要技術(shù)特征是解決最根本技術(shù)問題必不可少的特征,實(shí)際產(chǎn)品必不可少的特征不一定是必要技術(shù)特征。
第五步:撰寫?yīng)毩?quán)利要求。在第四步確定必要技術(shù)特征的基礎(chǔ)上,完成獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫。獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫分為兩個(gè)方面:①確定主題名稱。主題名稱一般限于技術(shù)交底材料提供的產(chǎn)品或者方法的名稱,主題名稱一般不需要概括。主題名稱注意不要出現(xiàn)區(qū)別特征;② 對必要技術(shù)特征在語言上進(jìn)行調(diào)整。將第四步確定的必要技術(shù)特征進(jìn)行組合,與最接近的現(xiàn)有技術(shù)做比較,將它們共同的必要技術(shù)特征寫入獨(dú)立權(quán)利要求的前序部分,區(qū)別于最接近現(xiàn)有技術(shù)的必要技術(shù)特征寫入特征部分。
第六步:撰寫從屬權(quán)利要求。對其他附加技術(shù)特征進(jìn)行分析,將那些對申請創(chuàng)造性會(huì)起作用的附加技術(shù)特征寫成相應(yīng)的從屬權(quán)利要求。如果從屬權(quán)利要求的數(shù)目不多,現(xiàn)有技術(shù)的特征也可以寫入從屬權(quán)利要求中。
(2)多個(gè)實(shí)施例的概括撰寫方式
如果針對發(fā)明點(diǎn)有兩個(gè)以上的實(shí)施例,盡可能將其共性在一個(gè)權(quán)利要求中進(jìn)行概括。
1)多個(gè)實(shí)施例需要概括的判斷
對于具有多種不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品權(quán)利要求而言,在撰寫權(quán)利要求時(shí),首先應(yīng)當(dāng)分析這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品之間的關(guān)系:
①多個(gè)實(shí)施例的改進(jìn)之間為主從關(guān)系;②多個(gè)實(shí)施例為并列改進(jìn),各改進(jìn)方案之間具有相同的構(gòu)思。a.多個(gè)實(shí)施例可以進(jìn)行概括。如果這些不同結(jié)構(gòu)產(chǎn)品之間是并列的、且滿足單一性要求的技術(shù)方案,則應(yīng)當(dāng)盡可能對這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品采用概括方式(上位概括或者功能性概括)的技術(shù)特征加以描述,從而將這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品都納入獨(dú)立權(quán)利要求中;在此基礎(chǔ)上再分別針對這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品的區(qū)別撰寫相應(yīng)的從屬權(quán)利要求;b.多個(gè)實(shí)施例無法進(jìn)行概括,可以分別針對這些具有不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品撰寫?yīng)毩?quán)利要求:③多個(gè)實(shí)施例為并列改進(jìn),各改進(jìn)方案之間不具有單一性。如果幾種不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品是并列的技術(shù)方案,且彼此之間不屬于一個(gè)總的發(fā)明構(gòu)思,則只能分別在兩件專利申請中以獨(dú)立權(quán)利要求方式撰寫。
2)需要概括的權(quán)利要求的撰寫步驟
針對需要概括的權(quán)利要求,仍然通過前面介紹的6步法進(jìn)行撰寫,在第4步確定必要技術(shù)特征時(shí),需要對多個(gè)實(shí)施例的共同點(diǎn)進(jìn)行概括。
對于針對發(fā)明點(diǎn)有兩個(gè)以上并列實(shí)施例的,可以通過以下方式概括:①功能性概括,采取具有……的功能的裝置/部件/結(jié)構(gòu)的概括方式;②功能性概括,但是不出現(xiàn)部件名稱,而是直接以功能代替具體結(jié)構(gòu);③上位概括,采取部件的上位名稱代替具體部件;④上位概括,不出現(xiàn)上位名稱,而是用省略具體結(jié)構(gòu)的方式表述。
(3)并列發(fā)明點(diǎn)的寫法
如果最根本的區(qū)別特征有兩個(gè)或者兩個(gè)以上,則屬于并列發(fā)明點(diǎn)。
1)并列發(fā)明點(diǎn)的判斷。出現(xiàn)以下情形時(shí),需要考慮并列發(fā)明點(diǎn)獨(dú)立權(quán)利要求的布局問題:①技術(shù)交底材料中明確給出了發(fā)明所要解決的多個(gè)最根本的技術(shù)問題,多個(gè)根本的技術(shù)問題是并列的,無依存或者主從關(guān)系,實(shí)施方式之間也沒有相同構(gòu)思;②雖然技術(shù)交底材料中只有一個(gè)最根本所要解決的技術(shù)問題,但是有多個(gè)實(shí)施方式,多個(gè)實(shí)施方式之間不具有相同的構(gòu)思,無法進(jìn)行概括,撰寫為多個(gè)并列的獨(dú)立權(quán)利要求又不具有單一性。
2)并列發(fā)明點(diǎn)的布局方式。對于技術(shù)交底材料有多個(gè)發(fā)明點(diǎn)的撰寫,首先在第一件專利申請中,技術(shù)交底材料給出的技術(shù)內(nèi)容都要寫入到權(quán)利要求中。這時(shí),第二個(gè)發(fā)明可能會(huì)寫為從屬權(quán)利要求。但是為了充分的保護(hù)發(fā)明創(chuàng)造,還需要針對第二個(gè)發(fā)明點(diǎn)撰寫成另一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求及其相應(yīng)的從屬權(quán)利要求,并建議委托人在同日另行提出一件專利申請。
3)撰寫步驟。并列發(fā)明點(diǎn)的撰寫與前面介紹的6步法基本相同,只是多了一個(gè)步驟7。在第二步確定發(fā)明點(diǎn)時(shí)發(fā)現(xiàn)有兩個(gè)或者兩個(gè)以上并列發(fā)明點(diǎn)時(shí),在第五步撰寫?yīng)毩?quán)利要求先以第一個(gè)發(fā)明點(diǎn)為核心撰寫?yīng)毩?quán)利要求。在步驟7中,以第二個(gè)發(fā)明點(diǎn)為核心再撰寫第一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求。
(4)并列主題
如果技術(shù)交底材料中出現(xiàn)了產(chǎn)品、制造方法、化學(xué)成分、配套的設(shè)備等內(nèi)容,則考慮為并列主題。對于每一個(gè)主題,都需要寫成并列獨(dú)立權(quán)利要求。如果技術(shù)交底書給出發(fā)明創(chuàng)造的若干技術(shù)主題,則首先要確定技術(shù)主題,在每個(gè)技術(shù)主題下,分別按照6步法進(jìn)行撰寫。
1)判斷技術(shù)主題的類型及數(shù)量
在閱讀技術(shù)交底書的過程中,首先應(yīng)當(dāng)判斷出技術(shù)交底書中描述的技術(shù)主題的類型,是產(chǎn)品還是方法?如果技術(shù)交底材料中涉及多個(gè)技術(shù)主題,在技術(shù)特征分析后,通過特定技術(shù)特征的比較確定多個(gè)主題之間是否具有單一性。對于不具有單一性的并列技術(shù)主題,需要撰寫另案申請的權(quán)利要求。
2)并列獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫方式。并列獨(dú)立權(quán)利要求有兩種撰寫方式:①引用式并列獨(dú)立權(quán)利要求,例如,多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求寫為:
“1.一種XX設(shè)備,其特征在于,包括ABCD。
2.一種使用如權(quán)利要求1所述XX設(shè)備的方法,其特征在于:A’B’C’D’”
3.一種YY設(shè)備,其特征在于:將權(quán)利要求1所述的XX設(shè)備與M設(shè)備連接起來?!?br/>
引用式撰寫方式一般用于相互有專屬配合關(guān)系的獨(dú)立權(quán)利要求。
②相互不引用的獨(dú)立權(quán)利要求,例如,多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求寫為:
“ 1.一種XX設(shè)備,其特征在于,包括ABCD。
2.一種XX方法,其特征在于,包括A’B’C’D’?!?br/>
四、權(quán)力要求書撰寫注意事項(xiàng)
1.從創(chuàng)造性的角度看
為滿足發(fā)明專利的創(chuàng)造性,在申請文件撰寫中需注意:充分檢索和分析現(xiàn)有技術(shù)、權(quán)利要求撰寫要提煉發(fā)明點(diǎn)、說明書撰寫應(yīng)證明發(fā)明創(chuàng)造性的證據(jù)。
(1)充分檢索和分析現(xiàn)有技術(shù)
一般而言,專利發(fā)明人在研發(fā)過程中已經(jīng)對先期技術(shù)有了一定的檢索和了解,然而在專利撰寫過程中仍有必要進(jìn)一步全面檢索,并深入分析現(xiàn)有技術(shù),看在研發(fā)過程中是否有相關(guān)文獻(xiàn)披露,是否仍然對現(xiàn)有技術(shù)具有貢獻(xiàn)點(diǎn),這不僅讓撰寫者更全面和客觀地理解現(xiàn)有技術(shù),更能讓撰寫者明白專利申請相對現(xiàn)有技術(shù)的改進(jìn)之處即發(fā)明點(diǎn),這有利于后續(xù)的權(quán)利要求書和說明書撰寫中對核心內(nèi)容的把握。
(2)權(quán)利要求撰寫應(yīng)提煉發(fā)明點(diǎn)
權(quán)利要求書是申請人對所保護(hù)的技術(shù)內(nèi)容和保護(hù)范圍給出清楚、準(zhǔn)確限定的法律文件,是發(fā)明專利申請文件中最重要的組成部分。權(quán)利要求的撰寫應(yīng)注意表達(dá)具有創(chuàng)造性的發(fā)明創(chuàng)造的內(nèi)容與范圍,在撰寫中需提煉發(fā)明點(diǎn),即為專利申請的技術(shù)帶來創(chuàng)造性的技術(shù)特征或者技術(shù)特征的組合。一般情況下,建議專利申請人在撰寫時(shí)對說明書中的技術(shù)方案進(jìn)行合理有度的概括,不要一味追求大的保護(hù)范圍而過度地抽象概括,使方案本身發(fā)生畸變,從而影響對整個(gè)方案的理解和技術(shù)性的判斷,為其后續(xù)審查以及專利申請人的利益帶來不必要的麻煩。
2.從獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求的角度看
(1)獨(dú)立權(quán)利要求與從屬權(quán)利要求的關(guān)系
權(quán)利要求書是申請人對技術(shù)方案中的技術(shù)特征用法律語言進(jìn)行的描述,也是授權(quán)后專利保護(hù)的技術(shù)范圍,它分為獨(dú)立權(quán)利要求與從屬權(quán)利要求。獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)從整體上反映技術(shù)方案的主要內(nèi)容,應(yīng)包含全部必要技術(shù)特征,可以獨(dú)立存在。在一份權(quán)利要求書中,獨(dú)立權(quán)利要求主題的類型必須是明確的,或是方法獨(dú)立權(quán)利要求,或是產(chǎn)品獨(dú)立權(quán)利要求,而不能在一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求中既包括方法又包括產(chǎn)品。從屬權(quán)利要求是對其獨(dú)立權(quán)利要求的補(bǔ)充限定,限定的技術(shù)特征一定 是已經(jīng)出現(xiàn)于在前的權(quán)利要求中。獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)體現(xiàn)寬,主要是起到專利“進(jìn)攻”的作用;而從屬權(quán)利要求則是對獨(dú)立權(quán)利要求進(jìn)行補(bǔ)充限定,起到專利 “防守”的作用。所以,一個(gè)好的權(quán)利要求書中應(yīng)當(dāng)有獨(dú)立權(quán)利要求和多個(gè)從屬權(quán)利要求。
(2)獨(dú)立權(quán)利要求保護(hù)范圍的“度”的把握
雖然獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)體現(xiàn)寬,但并不是越寬越好,應(yīng)該有一個(gè)度的把握。在撰寫?yīng)毩?quán)利要求時(shí)切勿將權(quán)利要求寫得較為寬泛,特別是實(shí)用新型專利的權(quán)利要求書,獨(dú)立權(quán)利要求的范圍太寬,所涵蓋的必要技術(shù)特征過多,可能會(huì)涉及他人專利已有的技術(shù)特征,使權(quán)利不穩(wěn)定,易于被他人宣告無效。同時(shí)獨(dú)立權(quán)利要求的范圍太寬,也容易導(dǎo)致與公知技術(shù)發(fā)生沖突,遭遇公知技術(shù)抗辯。
(3)獨(dú)立權(quán)利要求切忌寫入非必要技術(shù)特征
必要技術(shù)特征是指生產(chǎn)產(chǎn)品時(shí)技術(shù)上必不可少的技術(shù)特征,獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)從整體上反映出發(fā)明全部的必要技術(shù)特征,把非必要技術(shù) 特征寫入獨(dú)立權(quán)利要求,將導(dǎo)致專利保護(hù)范圍過窄,使專利的保護(hù)陷入被動(dòng),很難指控他人侵權(quán)。
(4)對權(quán)利要求書的自查和優(yōu)化選擇
在撰寫?yīng)毩?quán)利要求后,應(yīng)該從技術(shù)問題和技術(shù)效果的角度進(jìn)行自查,獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)問題和技術(shù)效果應(yīng)相互對應(yīng),盡量刪除不必要的用語和限制。在對從屬權(quán)利要求進(jìn)行自查時(shí),應(yīng)審視從屬權(quán)利要求是否盡可能引用了獨(dú)立權(quán)利要求,是否附加技術(shù)特征,是否對其獨(dú)立權(quán)利要求進(jìn)行補(bǔ)充限定,二者之間的層次是否相差過大。對同一項(xiàng)發(fā)明申請,申請人可以撰寫幾個(gè)不同的權(quán)利要求書進(jìn)行比較,因?yàn)橐_(dá)到既符合國家專利局形式審查和實(shí)質(zhì)審查的要求,又能恰到好處地保護(hù)申請人的利益是很不容易的,多撰寫幾個(gè)權(quán)利要求書,有利于申請人在反復(fù)比較過程中確定一個(gè)相對合理的方案。
另外,從屬權(quán)利要求的保護(hù)范圍比其引用的獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍窄,所以獨(dú)立權(quán)利要求如果能夠滿足新穎性和創(chuàng)造性的要求的話,從屬權(quán)利要求也同樣能夠滿足這一條件。從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)具有新穎性和創(chuàng)造性,因?yàn)閺膶贆?quán)利要求包含了獨(dú)立權(quán)利要求中所有的技術(shù)特征,并增加了一些新的限定特征[6]。
3.從權(quán)利要求的數(shù)量來看
將獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征概括得恰到需要注意:(1)獨(dú)立權(quán)利要求的數(shù)量:數(shù)量越多越能從不同角度如產(chǎn)品和方法上對技術(shù)進(jìn)行充分保護(hù);(2)從屬權(quán)利要求的數(shù)量:數(shù)量越多越能對抗他人申請同樣或類似的專利,從而與獨(dú)立權(quán)利要求共同構(gòu)成完整的權(quán)利保護(hù)體系;(3)獨(dú)立權(quán)利要求中相對于現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別特征的數(shù)量:在專利技術(shù)創(chuàng)造性確定的情況下,撰寫的獨(dú)立權(quán)利要求中區(qū)別特征數(shù)量越多,一般會(huì)導(dǎo)致專利保護(hù)范圍越小[6]。在符合“清楚”要求的前提下,專利申請獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫比較上位或者比較概括,專利的保護(hù)范圍就較寬,如果寫得過于具體或加進(jìn)了非必要技術(shù)特征,則專利權(quán)利范圍變小。但也不能認(rèn)為撰寫得越上位越好,其原因是獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征過于上位會(huì)導(dǎo)致權(quán)利要求的不支持,無法有效對抗他人的無效宣告請求,降低專利的穩(wěn)定性,以至于專利質(zhì)量同樣會(huì)受到影響。因此,只有將獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征概括得恰到好處才算合理。
五、結(jié)語
從提高專利質(zhì)量的角度來說,需要從源頭上規(guī)范申請人的申請行為,不能僅僅要求專利申請的數(shù)量或者授權(quán)專利的數(shù)量,而是要從權(quán)利要求的布局撰寫過程中提高專利的質(zhì)量。
參考文獻(xiàn)
[1] 王澄. 機(jī)械領(lǐng)域發(fā)明專利申請文件撰寫與答復(fù)技巧[M].知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社, 2012.
[2] 李寧馨, 張艷, 蔣碧珠. 從提高專利質(zhì)量的角度看如何撰寫專利申請文件[J].中國發(fā)明與專利, 2013(3):61-63.
[3] 中華人民共和國國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局,制定.專利審查指南[M].知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社, 2010.
[4] 陳朝陽. 從權(quán)利要求數(shù)量看中外申請人的專利策略[J].發(fā)明與創(chuàng)新(大科技), 2013(6).
[5] 韓龍. 專利代理實(shí)務(wù)講座教程及歷年試題解析[M]. 國防工業(yè), 2015.
[6] 程永順:《專利糾紛與處理》,北京:知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社,2006年版。
[6] 陳朝陽. 從權(quán)利要求數(shù)量看中外申請人的專利策略[J]. 發(fā)明與創(chuàng)新(大科技), 2013(6).
來源:IPRdaily中文網(wǎng)(IPRdaily.cn)
作者:閆曉樂 李曉敏 北京品源專利代理有限公司
編輯:IPRdaily趙珍 校對:IPRdaily縱橫君
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