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作者:殷慎敏 北京品源知識產(chǎn)權代理有限公司
原標題:美國的單方再審程序面面觀
美國專利商標局的單方再審 (Ex Parte Reexamination)是指在專利權有效期內(nèi), 任何人包括第三方,專利權人或美國專利商標局均可以根據(jù)在先公開的文獻,向美國專利商標局提請單方再審的請求。自1981年美國單方再審程序啟動到今天,它依然是授權后無效程序的重要工具。本文總結(jié)出單方再審的八個重要方面,以方便讀者全面快速了解該程序。
1、單方再審的請求人
單方再審不限制請求人,可以是專利權人,也可以是第三方,或者美國專利商標局。第三方可以匿名提請單方再審。
2、單方再審的理由
啟動單方再審的前提是根據(jù)在先公開文獻發(fā)現(xiàn)了可專利性的實質(zhì)新問題(substantial new question of patentability)。這里的在先公開文獻只限于專利文獻或印刷材料。在審查過程中沒有被引用過的新文獻,如果在技術啟示方面沒有被審查員考慮過,則可用來支持可專利性的實質(zhì)新問題的提出;而在審查過程中已被考慮過的舊文獻,如果從新的角度加以引用,也可用來支持提出可專利性的實質(zhì)新問題。
3、單方再審的審查部門
美國專利商標局審查單方再審的部門是中央復審單位 (Central Reexamination Unit)。單方再審由三名資深審查員組成的合議組執(zhí)行處理。
4、單方再審的時間表
美國專利局要求單方再審在兩年內(nèi)審結(jié),目前的數(shù)據(jù)顯示平均審結(jié)時間是25.7月。
5、單方再審的請求
單方再審的請求需要包括如下內(nèi)容:
● 指出存在可專利性的實質(zhì)新問題的陳述
● 詳細解釋并證明所引用文獻與被請求審查的權利要求之間相關性
● 引用文獻的復印件
● 請求被審查專利的復印件
● 已將請求書復印件發(fā)給專利權人的證明
● 付費證明
6、單方再審啟動后的程序特點
● 第三方請求人無法繼續(xù)參與到后續(xù)的審查
● 單方再審程序一旦啟動,無法放棄和撤回該程序
● 請求繼續(xù)審查(RCE)程序不適用于單方再審
● 第三方請求人可以保留匿名狀態(tài)
● 專利權人對單方再審決定不服,可以向美國專利局申請復審
● 專利權人對復審決定不服,可以到聯(lián)邦巡回上訴法院提起訴訟
7、單方再審階段的官費
自2018年1月16日實施的美國專利商標局有關單方再審的最新官費見下表。值得注意的是這里的微實體只適用于專利權人提請的單方再審。
8、單方再審決定的數(shù)據(jù)統(tǒng)計
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編輯:IPRdaily王穎 校對:IPRdaily縱橫君
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