專利申請(qǐng)文件中「權(quán)利要求書」的撰寫

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作者：閆曉樂(lè) 李曉敏  北京品源專利代理有限公司

原標(biāo)題：淺談關(guān)于專利申請(qǐng)文件中權(quán)利要求書的撰寫

摘要：本文對(duì)專利申請(qǐng)文件中權(quán)利要求書的撰寫要求、撰寫步驟以及注意事項(xiàng)進(jìn)行了詳細(xì)介紹。

關(guān)鍵詞：專利申請(qǐng) 權(quán)利要求書 權(quán)利要求

一、引言

在包括請(qǐng)求書、權(quán)利要求書、說(shuō)明書(必要時(shí)應(yīng)當(dāng)有附圖)及其摘要等一系列文件的專利申請(qǐng)文件中，權(quán)利要求書作為法律文件之一無(wú)疑起著非常重要的作用。權(quán)利要求書本質(zhì)的作用之一在于確立專利權(quán)的保護(hù)范圍，無(wú)論是專利的代理、審查、推廣，還是在無(wú)效宣告及侵權(quán)訴訟等程序中，都是以權(quán)利要求書所提出的技術(shù)方案為基礎(chǔ)[1]。由此可以看出，撰寫出高質(zhì)量的權(quán)利要求書對(duì)于專利新申請(qǐng)是十分重要的[2]。有質(zhì)量的專利就是有效的專利，而對(duì)專利質(zhì)量的評(píng)價(jià)主要分為技術(shù)評(píng)價(jià)、法律評(píng)價(jià)和市場(chǎng)評(píng)價(jià)三個(gè)指標(biāo)。通過(guò)專利申請(qǐng)文件撰寫的技巧，能夠?qū)δ承＠|(zhì)量指標(biāo)進(jìn)行改進(jìn)。

專利的保護(hù)范圍由權(quán)利要求進(jìn)行限定，而權(quán)利要求的限定具有廣度與深度兩個(gè)維度，一項(xiàng)權(quán)利要求本身的保護(hù)范圍，更多的是體現(xiàn)廣度，一項(xiàng)專利或其申請(qǐng)中權(quán)利要求數(shù)量的多少，體現(xiàn)了申請(qǐng)人在深度這一維度的策略性布局。

二、專利申請(qǐng)權(quán)利要求書的概述

《專利法》第59條第1款規(guī)定:發(fā)明或者實(shí)用新型專利權(quán)的保護(hù)范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準(zhǔn)，說(shuō)明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容[3]。因此，權(quán)利要求書是確定專利權(quán)保護(hù)范圍的依據(jù)，也是判斷他人是否侵權(quán)的依據(jù)。

權(quán)利要求書和權(quán)利要求是兩個(gè)不同的概念，不能混淆，更不能簡(jiǎn)單的劃等號(hào)。權(quán)利要求書是專利申請(qǐng)人為獲取專利權(quán)而撰寫并向?qū)＠姓块T提交的一項(xiàng)重要文件。權(quán)利要求則是指權(quán)利要求書中記載的具體的技術(shù)特征，一項(xiàng)權(quán)利要求書中可以包含多個(gè)權(quán)利要求。權(quán)利要求書是權(quán)利要求的載體。

專利申請(qǐng)獲得授權(quán)后，權(quán)利要求是作為限定專利保護(hù)范圍的依據(jù)，其對(duì)專利的概括程度與專利保護(hù)范圍的大小有密切關(guān)系。為了充分保護(hù)申請(qǐng)人的利益，權(quán)利要求應(yīng)能夠謀求盡可能大的保護(hù)范圍。一般而言，權(quán)利要求數(shù)量越多，專利的保護(hù)范圍越大，說(shuō)明專利的原創(chuàng)性越高，專利質(zhì)量也越高，同時(shí)遭遇侵權(quán)和訴訟的頻率也越高[4]。

三、關(guān)于專利申請(qǐng)權(quán)利要求書的撰寫

權(quán)利要求的撰寫有多種撰寫方式，應(yīng)當(dāng)要和技術(shù)交底材料的內(nèi)容相適應(yīng)[5]。

1.撰寫前排除明顯不能獲得專利保護(hù)的主題

撰寫以前，首先要排除不符合《專利法》第2條有關(guān)發(fā)明或者實(shí)用新型的定義的主題，排除明顯屬于《專利法》第5條或者第25條不能授予專利權(quán)的客體，排除明顯不符合《專利法》第22條第4款有關(guān)實(shí)用性規(guī)定的主題。

2. 撰寫要求

（1）權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)包括獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求（《專利法實(shí)施細(xì)則》第20條第1款）。

（2）獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)滿足下列要求：①在合理的前提下具有較寬的保護(hù)范圍，能夠最大限度地體現(xiàn)申請(qǐng)人的而利益；②清楚簡(jiǎn)明地限定其保護(hù)范圍（《專利法》第26條第4款）；③記載解決技術(shù)問(wèn)題的全部必要技術(shù)特征（《專利法實(shí)施細(xì)則》第20條第2款）；④對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)具備新穎性和創(chuàng)造性（《專利法》第22條第2款、第3款）；⑤符合《專利法》及《專利法實(shí)施細(xì)則》關(guān)于獨(dú)立權(quán)利要求的其他規(guī)定。

（3）從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)滿足下列要求：①?gòu)膶贆?quán)利要求的數(shù)量適當(dāng)、合理；②與被引用的權(quán)利要求之間有清楚的邏輯關(guān)系（《專利法》第26條第4款、《專利法實(shí)施細(xì)則》第22條）；③當(dāng)授權(quán)后面臨不得不縮小權(quán)利要求保護(hù)范圍的情況時(shí)，能提供充分的修改余地；④符合《專利法》及《專利法實(shí)施細(xì)則》關(guān)于從屬權(quán)利要求的其他規(guī)定。

（4）撰寫多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求的，多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求之間應(yīng)當(dāng)具有單一性。

3. 權(quán)利要求撰寫的方式

（1）不考慮概括的撰寫方式

撰寫的核心任務(wù)是找到技術(shù)交底材料中的區(qū)別技術(shù)特征，并圍繞區(qū)別技術(shù)特征撰寫權(quán)利要求書，將起到基礎(chǔ)、根本作用的區(qū)別技術(shù)特征作為發(fā)明點(diǎn)。技術(shù)交底材料如果針對(duì)發(fā)明點(diǎn)只有一個(gè)實(shí)施例，一般不需要考慮對(duì)實(shí)施例的概括。

1）不需要對(duì)多個(gè)實(shí)施例的概括情形

以下幾種情況，一般不需要對(duì)涉及同一技術(shù)內(nèi)容幾個(gè)實(shí)施方式進(jìn)行概括：①如果技術(shù)交底材料只給出一個(gè)技術(shù)主題之下的一個(gè)實(shí)施例的情況，一般不進(jìn)行上位概括或者功能性概括；②如果技術(shù)交底材料給出了多個(gè)實(shí)施例，但是多個(gè)實(shí)施例的之間為主從關(guān)系，可針對(duì)基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品撰寫?yīng)毩?quán)利要求（不需要概括），而將其他幾種結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品作為該獨(dú)立權(quán)利要求的從屬權(quán)利要求撰寫；③如果交底材料中明確給出了上位或者功能概括的方式，也不需要考慮多個(gè)實(shí)施例的概括問(wèn)題。

2）權(quán)利要求不需要概括的情形下的撰寫步驟

針對(duì)不需要概括的權(quán)利要求，通過(guò)以下6個(gè)步驟撰寫：

第一步：技術(shù)特征分析。第一步技術(shù)特征分析中包括兩個(gè)方面：列出全部技術(shù)特征；分析技術(shù)特征之間的邏輯關(guān)系。

第二步：找發(fā)明點(diǎn)。找發(fā)明點(diǎn)的步驟中包括兩個(gè)方面：技術(shù)對(duì)比，找出區(qū)別技術(shù)特征；在區(qū)別技術(shù)特征中確定發(fā)明點(diǎn)。

第三步：確定所要解決的技術(shù)問(wèn)題。在第三步中，應(yīng)當(dāng)根據(jù)第二步中確定的發(fā)明點(diǎn)所產(chǎn)生的技術(shù)效果，與最接近的現(xiàn)有技術(shù)對(duì)比，確定發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題。

第四步：確定必要技術(shù)特征。必要技術(shù)特征是解決最根本技術(shù)問(wèn)題必不可少的特征，實(shí)際產(chǎn)品必不可少的特征不一定是必要技術(shù)特征。

第五步：撰寫?yīng)毩?quán)利要求。在第四步確定必要技術(shù)特征的基礎(chǔ)上，完成獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫。獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫分為兩個(gè)方面：①確定主題名稱。主題名稱一般限于技術(shù)交底材料提供的產(chǎn)品或者方法的名稱，主題名稱一般不需要概括。主題名稱注意不要出現(xiàn)區(qū)別特征；② 對(duì)必要技術(shù)特征在語(yǔ)言上進(jìn)行調(diào)整。將第四步確定的必要技術(shù)特征進(jìn)行組合，與最接近的現(xiàn)有技術(shù)做比較，將它們共同的必要技術(shù)特征寫入獨(dú)立權(quán)利要求的前序部分，區(qū)別于最接近現(xiàn)有技術(shù)的必要技術(shù)特征寫入特征部分。

第六步：撰寫從屬權(quán)利要求。對(duì)其他附加技術(shù)特征進(jìn)行分析，將那些對(duì)申請(qǐng)創(chuàng)造性會(huì)起作用的附加技術(shù)特征寫成相應(yīng)的從屬權(quán)利要求。如果從屬權(quán)利要求的數(shù)目不多，現(xiàn)有技術(shù)的特征也可以寫入從屬權(quán)利要求中。

（2）多個(gè)實(shí)施例的概括撰寫方式

如果針對(duì)發(fā)明點(diǎn)有兩個(gè)以上的實(shí)施例，盡可能將其共性在一個(gè)權(quán)利要求中進(jìn)行概括。

1）多個(gè)實(shí)施例需要概括的判斷

對(duì)于具有多種不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品權(quán)利要求而言，在撰寫權(quán)利要求時(shí)，首先應(yīng)當(dāng)分析這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品之間的關(guān)系：

①多個(gè)實(shí)施例的改進(jìn)之間為主從關(guān)系；②多個(gè)實(shí)施例為并列改進(jìn)，各改進(jìn)方案之間具有相同的構(gòu)思。a.多個(gè)實(shí)施例可以進(jìn)行概括。如果這些不同結(jié)構(gòu)產(chǎn)品之間是并列的、且滿足單一性要求的技術(shù)方案，則應(yīng)當(dāng)盡可能對(duì)這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品采用概括方式（上位概括或者功能性概括）的技術(shù)特征加以描述，從而將這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品都納入獨(dú)立權(quán)利要求中；在此基礎(chǔ)上再分別針對(duì)這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品的區(qū)別撰寫相應(yīng)的從屬權(quán)利要求；b.多個(gè)實(shí)施例無(wú)法進(jìn)行概括，可以分別針對(duì)這些具有不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品撰寫?yīng)毩?quán)利要求：③多個(gè)實(shí)施例為并列改進(jìn)，各改進(jìn)方案之間不具有單一性。如果幾種不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品是并列的技術(shù)方案，且彼此之間不屬于一個(gè)總的發(fā)明構(gòu)思，則只能分別在兩件專利申請(qǐng)中以獨(dú)立權(quán)利要求方式撰寫。

2）需要概括的權(quán)利要求的撰寫步驟

針對(duì)需要概括的權(quán)利要求，仍然通過(guò)前面介紹的6步法進(jìn)行撰寫，在第4步確定必要技術(shù)特征時(shí)，需要對(duì)多個(gè)實(shí)施例的共同點(diǎn)進(jìn)行概括。

對(duì)于針對(duì)發(fā)明點(diǎn)有兩個(gè)以上并列實(shí)施例的，可以通過(guò)以下方式概括：①功能性概括，采取具有……的功能的裝置/部件/結(jié)構(gòu)的概括方式；②功能性概括，但是不出現(xiàn)部件名稱，而是直接以功能代替具體結(jié)構(gòu)；③上位概括，采取部件的上位名稱代替具體部件；④上位概括，不出現(xiàn)上位名稱，而是用省略具體結(jié)構(gòu)的方式表述。

（3）并列發(fā)明點(diǎn)的寫法

如果最根本的區(qū)別特征有兩個(gè)或者兩個(gè)以上，則屬于并列發(fā)明點(diǎn)。

1）并列發(fā)明點(diǎn)的判斷。出現(xiàn)以下情形時(shí)，需要考慮并列發(fā)明點(diǎn)獨(dú)立權(quán)利要求的布局問(wèn)題：①技術(shù)交底材料中明確給出了發(fā)明所要解決的多個(gè)最根本的技術(shù)問(wèn)題，多個(gè)根本的技術(shù)問(wèn)題是并列的，無(wú)依存或者主從關(guān)系，實(shí)施方式之間也沒(méi)有相同構(gòu)思；②雖然技術(shù)交底材料中只有一個(gè)最根本所要解決的技術(shù)問(wèn)題，但是有多個(gè)實(shí)施方式，多個(gè)實(shí)施方式之間不具有相同的構(gòu)思，無(wú)法進(jìn)行概括，撰寫為多個(gè)并列的獨(dú)立權(quán)利要求又不具有單一性。

2）并列發(fā)明點(diǎn)的布局方式。對(duì)于技術(shù)交底材料有多個(gè)發(fā)明點(diǎn)的撰寫，首先在第一件專利申請(qǐng)中，技術(shù)交底材料給出的技術(shù)內(nèi)容都要寫入到權(quán)利要求中。這時(shí)，第二個(gè)發(fā)明可能會(huì)寫為從屬權(quán)利要求。但是為了充分的保護(hù)發(fā)明創(chuàng)造，還需要針對(duì)第二個(gè)發(fā)明點(diǎn)撰寫成另一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求及其相應(yīng)的從屬權(quán)利要求，并建議委托人在同日另行提出一件專利申請(qǐng)。

3）撰寫步驟。并列發(fā)明點(diǎn)的撰寫與前面介紹的6步法基本相同，只是多了一個(gè)步驟7。在第二步確定發(fā)明點(diǎn)時(shí)發(fā)現(xiàn)有兩個(gè)或者兩個(gè)以上并列發(fā)明點(diǎn)時(shí)，在第五步撰寫?yīng)毩?quán)利要求先以第一個(gè)發(fā)明點(diǎn)為核心撰寫?yīng)毩?quán)利要求。在步驟7中，以第二個(gè)發(fā)明點(diǎn)為核心再撰寫第一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求。

（4）并列主題

如果技術(shù)交底材料中出現(xiàn)了產(chǎn)品、制造方法、化學(xué)成分、配套的設(shè)備等內(nèi)容，則考慮為并列主題。對(duì)于每一個(gè)主題，都需要寫成并列獨(dú)立權(quán)利要求。如果技術(shù)交底書給出發(fā)明創(chuàng)造的若干技術(shù)主題，則首先要確定技術(shù)主題，在每個(gè)技術(shù)主題下，分別按照6步法進(jìn)行撰寫。

1）判斷技術(shù)主題的類型及數(shù)量

在閱讀技術(shù)交底書的過(guò)程中，首先應(yīng)當(dāng)判斷出技術(shù)交底書中描述的技術(shù)主題的類型，是產(chǎn)品還是方法？如果技術(shù)交底材料中涉及多個(gè)技術(shù)主題，在技術(shù)特征分析后，通過(guò)特定技術(shù)特征的比較確定多個(gè)主題之間是否具有單一性。對(duì)于不具有單一性的并列技術(shù)主題，需要撰寫另案申請(qǐng)的權(quán)利要求。

2）并列獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫方式。并列獨(dú)立權(quán)利要求有兩種撰寫方式：①引用式并列獨(dú)立權(quán)利要求，例如，多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求寫為：

“1.一種XX設(shè)備，其特征在于，包括ABCD。

2.一種使用如權(quán)利要求1所述XX設(shè)備的方法，其特征在于：A’B’C’D’”

3.一種YY設(shè)備，其特征在于：將權(quán)利要求1所述的XX設(shè)備與M設(shè)備連接起來(lái)?！?br/>

引用式撰寫方式一般用于相互有專屬配合關(guān)系的獨(dú)立權(quán)利要求。

②相互不引用的獨(dú)立權(quán)利要求，例如，多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求寫為：

“ 1.一種XX設(shè)備，其特征在于，包括ABCD。

2.一種XX方法，其特征在于，包括A’B’C’D’?！?br/>

四、權(quán)力要求書撰寫注意事項(xiàng)

1.從創(chuàng)造性的角度看

為滿足發(fā)明專利的創(chuàng)造性，在申請(qǐng)文件撰寫中需注意：充分檢索和分析現(xiàn)有技術(shù)、權(quán)利要求撰寫要提煉發(fā)明點(diǎn)、說(shuō)明書撰寫應(yīng)證明發(fā)明創(chuàng)造性的證據(jù)。

（1）充分檢索和分析現(xiàn)有技術(shù)

一般而言，專利發(fā)明人在研發(fā)過(guò)程中已經(jīng)對(duì)先期技術(shù)有了一定的檢索和了解，然而在專利撰寫過(guò)程中仍有必要進(jìn)一步全面檢索，并深入分析現(xiàn)有技術(shù)，看在研發(fā)過(guò)程中是否有相關(guān)文獻(xiàn)披露，是否仍然對(duì)現(xiàn)有技術(shù)具有貢獻(xiàn)點(diǎn)，這不僅讓撰寫者更全面和客觀地理解現(xiàn)有技術(shù)，更能讓撰寫者明白專利申請(qǐng)相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的改進(jìn)之處即發(fā)明點(diǎn)，這有利于后續(xù)的權(quán)利要求書和說(shuō)明書撰寫中對(duì)核心內(nèi)容的把握。

（2）權(quán)利要求撰寫應(yīng)提煉發(fā)明點(diǎn)

權(quán)利要求書是申請(qǐng)人對(duì)所保護(hù)的技術(shù)內(nèi)容和保護(hù)范圍給出清楚、準(zhǔn)確限定的法律文件，是發(fā)明專利申請(qǐng)文件中最重要的組成部分。權(quán)利要求的撰寫應(yīng)注意表達(dá)具有創(chuàng)造性的發(fā)明創(chuàng)造的內(nèi)容與范圍，在撰寫中需提煉發(fā)明點(diǎn)，即為專利申請(qǐng)的技術(shù)帶來(lái)創(chuàng)造性的技術(shù)特征或者技術(shù)特征的組合。一般情況下，建議專利申請(qǐng)人在撰寫時(shí)對(duì)說(shuō)明書中的技術(shù)方案進(jìn)行合理有度的概括，不要一味追求大的保護(hù)范圍而過(guò)度地抽象概括，使方案本身發(fā)生畸變，從而影響對(duì)整個(gè)方案的理解和技術(shù)性的判斷，為其后續(xù)審查以及專利申請(qǐng)人的利益帶來(lái)不必要的麻煩。

2.從獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求的角度看

（1）獨(dú)立權(quán)利要求與從屬權(quán)利要求的關(guān)系

權(quán)利要求書是申請(qǐng)人對(duì)技術(shù)方案中的技術(shù)特征用法律語(yǔ)言進(jìn)行的描述，也是授權(quán)后專利保護(hù)的技術(shù)范圍，它分為獨(dú)立權(quán)利要求與從屬權(quán)利要求。獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)從整體上反映技術(shù)方案的主要內(nèi)容，應(yīng)包含全部必要技術(shù)特征，可以獨(dú)立存在。在一份權(quán)利要求書中，獨(dú)立權(quán)利要求主題的類型必須是明確的，或是方法獨(dú)立權(quán)利要求，或是產(chǎn)品獨(dú)立權(quán)利要求，而不能在一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求中既包括方法又包括產(chǎn)品。從屬權(quán)利要求是對(duì)其獨(dú)立權(quán)利要求的補(bǔ)充限定，限定的技術(shù)特征一定 是已經(jīng)出現(xiàn)于在前的權(quán)利要求中。獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)體現(xiàn)寬，主要是起到專利“進(jìn)攻”的作用；而從屬權(quán)利要求則是對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求進(jìn)行補(bǔ)充限定，起到專利 “防守”的作用。所以，一個(gè)好的權(quán)利要求書中應(yīng)當(dāng)有獨(dú)立權(quán)利要求和多個(gè)從屬權(quán)利要求。

（2）獨(dú)立權(quán)利要求保護(hù)范圍的“度”的把握

雖然獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)體現(xiàn)寬，但并不是越寬越好，應(yīng)該有一個(gè)度的把握。在撰寫?yīng)毩?quán)利要求時(shí)切勿將權(quán)利要求寫得較為寬泛，特別是實(shí)用新型專利的權(quán)利要求書，獨(dú)立權(quán)利要求的范圍太寬，所涵蓋的必要技術(shù)特征過(guò)多，可能會(huì)涉及他人專利已有的技術(shù)特征，使權(quán)利不穩(wěn)定，易于被他人宣告無(wú)效。同時(shí)獨(dú)立權(quán)利要求的范圍太寬，也容易導(dǎo)致與公知技術(shù)發(fā)生沖突，遭遇公知技術(shù)抗辯。

（3）獨(dú)立權(quán)利要求切忌寫入非必要技術(shù)特征

必要技術(shù)特征是指生產(chǎn)產(chǎn)品時(shí)技術(shù)上必不可少的技術(shù)特征，獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)從整體上反映出發(fā)明全部的必要技術(shù)特征，把非必要技術(shù) 特征寫入獨(dú)立權(quán)利要求，將導(dǎo)致專利保護(hù)范圍過(guò)窄，使專利的保護(hù)陷入被動(dòng)，很難指控他人侵權(quán)。

（4）對(duì)權(quán)利要求書的自查和優(yōu)化選擇

在撰寫?yīng)毩?quán)利要求后，應(yīng)該從技術(shù)問(wèn)題和技術(shù)效果的角度進(jìn)行自查，獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)問(wèn)題和技術(shù)效果應(yīng)相互對(duì)應(yīng)，盡量刪除不必要的用語(yǔ)和限制。在對(duì)從屬權(quán)利要求進(jìn)行自查時(shí)，應(yīng)審視從屬權(quán)利要求是否盡可能引用了獨(dú)立權(quán)利要求，是否附加技術(shù)特征，是否對(duì)其獨(dú)立權(quán)利要求進(jìn)行補(bǔ)充限定，二者之間的層次是否相差過(guò)大。對(duì)同一項(xiàng)發(fā)明申請(qǐng)，申請(qǐng)人可以撰寫幾個(gè)不同的權(quán)利要求書進(jìn)行比較，因?yàn)橐_(dá)到既符合國(guó)家專利局形式審查和實(shí)質(zhì)審查的要求，又能恰到好處地保護(hù)申請(qǐng)人的利益是很不容易的，多撰寫幾個(gè)權(quán)利要求書，有利于申請(qǐng)人在反復(fù)比較過(guò)程中確定一個(gè)相對(duì)合理的方案。

另外，從屬權(quán)利要求的保護(hù)范圍比其引用的獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍窄，所以獨(dú)立權(quán)利要求如果能夠滿足新穎性和創(chuàng)造性的要求的話，從屬權(quán)利要求也同樣能夠滿足這一條件。從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)具有新穎性和創(chuàng)造性，因?yàn)閺膶贆?quán)利要求包含了獨(dú)立權(quán)利要求中所有的技術(shù)特征，并增加了一些新的限定特征[6]。

3.從權(quán)利要求的數(shù)量來(lái)看

將獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征概括得恰到需要注意：（1）獨(dú)立權(quán)利要求的數(shù)量：數(shù)量越多越能從不同角度如產(chǎn)品和方法上對(duì)技術(shù)進(jìn)行充分保護(hù)；（2）從屬權(quán)利要求的數(shù)量：數(shù)量越多越能對(duì)抗他人申請(qǐng)同樣或類似的專利，從而與獨(dú)立權(quán)利要求共同構(gòu)成完整的權(quán)利保護(hù)體系；（3）獨(dú)立權(quán)利要求中相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別特征的數(shù)量：在專利技術(shù)創(chuàng)造性確定的情況下，撰寫的獨(dú)立權(quán)利要求中區(qū)別特征數(shù)量越多，一般會(huì)導(dǎo)致專利保護(hù)范圍越小[6]。在符合“清楚”要求的前提下，專利申請(qǐng)獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫比較上位或者比較概括，專利的保護(hù)范圍就較寬，如果寫得過(guò)于具體或加進(jìn)了非必要技術(shù)特征，則專利權(quán)利范圍變小。但也不能認(rèn)為撰寫得越上位越好，其原因是獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征過(guò)于上位會(huì)導(dǎo)致權(quán)利要求的不支持，無(wú)法有效對(duì)抗他人的無(wú)效宣告請(qǐng)求，降低專利的穩(wěn)定性，以至于專利質(zhì)量同樣會(huì)受到影響。因此，只有將獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征概括得恰到好處才算合理。

五、結(jié)語(yǔ)

從提高專利質(zhì)量的角度來(lái)說(shuō)，需要從源頭上規(guī)范申請(qǐng)人的申請(qǐng)行為，不能僅僅要求專利申請(qǐng)的數(shù)量或者授權(quán)專利的數(shù)量，而是要從權(quán)利要求的布局撰寫過(guò)程中提高專利的質(zhì)量。

參考文獻(xiàn)

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來(lái)源：IPRdaily中文網(wǎng)（IPRdaily.cn）

作者：閆曉樂(lè) 李曉敏  北京品源專利代理有限公司

編輯：IPRdaily趙珍          校對(duì)：IPRdaily縱橫君

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