三星、華為握手言和，終止訴訟程序，持續(xù)2年的專利糾紛終化解

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原標題：三星、華為握手言和，終止訴訟程序，持續(xù)2年的專利糾紛終化解

當?shù)貢r間星期二，在就已經(jīng)持續(xù)2年之久的專利侵權(quán)法律大戰(zhàn)達成和解協(xié)議后，三星和華為要求一家法院中止處理相關(guān)訴訟的程序。

兩家公司在2016年相互起訴對方違犯協(xié)議、侵犯自己的專利。根據(jù)計劃，該案將于今年9月開庭審理，屆時陪審團將聽取三星有關(guān)華為違背FRAND（公平、合理和非歧視）許可義務(wù)的主張。

2016年華為起訴三星非法使用了其技術(shù)，其中主要涉及4G通信技術(shù)、智能手機操作功能相關(guān)軟件。華為訴稱，包括Galaxy S7/S7edge在內(nèi)的近20款三星終端產(chǎn)品，涉嫌侵權(quán)其2010年申請的“一種可應(yīng)用于終端組件顯示的處理方法和用戶設(shè)備”專利。2017年，泉州中院裁定三星因侵犯專利賠償華為8000萬元經(jīng)濟損失。

今天向法院提交的聯(lián)合動議證實華為和三星本周達成了庭外和解協(xié)議，至少和解在美國的訴訟。聯(lián)合文件稱，“雙方達成了和解協(xié)議，根據(jù)協(xié)議，它們將在未來數(shù)周采取措施，完成和解訴訟的工作，華為將在30天內(nèi)提交撤訴文件?！?/p>

來源：清揚Tech

編輯：IPRdaily趙珍          校對：IPRdaily縱橫君

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