科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專利深度解析

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作者：賈年龍 譙勤    智信九鼎科技評(píng)估

原標(biāo)題：科創(chuàng)板上市企業(yè)專利深度解析之——安集微電子

科技創(chuàng)新型企業(yè)是否掌握核心技術(shù)，以及是否擁有足夠數(shù)量和質(zhì)量的專利，是企業(yè)核心競(jìng)爭(zhēng)力的重要保障。在相同的技術(shù)領(lǐng)域中，存在哪些競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，各個(gè)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的布局情況、企業(yè)在主要的目標(biāo)市場(chǎng)區(qū)域的專利布局，以及專利申請(qǐng)的持續(xù)性都揭示了企業(yè)未來可能面臨的競(jìng)爭(zhēng)和應(yīng)對(duì)能力。除此之外，結(jié)合行業(yè)和競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的專利布局和研發(fā)動(dòng)向分析，企業(yè)在產(chǎn)業(yè)鏈上可能面臨的知識(shí)產(chǎn)權(quán)風(fēng)險(xiǎn)分析、自主掌握的核心專利的保護(hù)力度都將給科創(chuàng)板知識(shí)產(chǎn)權(quán)分析帶來全新的視角。

2019年6月13日中國(guó)證監(jiān)會(huì)和上海市政府聯(lián)合舉辦了上海證券交易所科創(chuàng)板的開板，首批科創(chuàng)板上市公司也有望在7月22日上市。截至7月4日，已受理141家公司提交的發(fā)行上市申請(qǐng)，向118家公司發(fā)出了首輪問詢函，科創(chuàng)板股票上市委員會(huì)已審議通過31家公司的發(fā)行上市申請(qǐng)，已有25家公司獲得證監(jiān)會(huì)同意注冊(cè)的批復(fù)。由于科創(chuàng)板上市企業(yè)的披露的基本內(nèi)容并不明朗，甚至出現(xiàn)“過會(huì)”后被撤回的現(xiàn)象。審議通過的企業(yè)，在招股說明書中即使披露了企業(yè)核心技術(shù)、專利數(shù)量等情況，但是對(duì)于各級(jí)機(jī)關(guān)以及普通股民來講，也很難進(jìn)一步了解專利真實(shí)價(jià)值以及專利價(jià)值背后深層次的信息，比如核心技術(shù)布局專利好壞、專利質(zhì)量的高低對(duì)企業(yè)的影響。

安集微電子

本文以科創(chuàng)板首批上市企業(yè)安集微電子為例，從專利的角度宏觀分析企業(yè)專利質(zhì)量、專利布局對(duì)企業(yè)核心技術(shù)的保護(hù)以及同領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手情況，以為您提供更多參考。

專利申請(qǐng)

從申請(qǐng)時(shí)間來看：披露的專利為2005-2014年間申請(qǐng)并獲得授權(quán)的專利。其中絕大部分為2005-2010年間的申請(qǐng)，最早的申請(qǐng)至今維持年限已有14年，達(dá)到最大維持年限20年的剩余壽命為6-10年。

從申請(qǐng)的持續(xù)性來看：專利申請(qǐng)數(shù)量從2014年開始整體上有所下降，但每年仍有大約20項(xiàng)左右的申請(qǐng)，持續(xù)研發(fā)能力較好。

從專利類型來看：披露的190件專利均為發(fā)明專利，相對(duì)來講創(chuàng)新性較高。

從技術(shù)起源來看：主要為發(fā)行人自主持有，有少數(shù)控股公司的內(nèi)部轉(zhuǎn)讓，自主研發(fā)能力強(qiáng)。

從地域布局來看：發(fā)行人主要集中在中國(guó)大陸，這與公司產(chǎn)品本土化的特點(diǎn)相符，我們也可以看到發(fā)行人在臺(tái)灣也有大量布局，這與主要客戶之一臺(tái)積電密切相關(guān)。

核心技術(shù)對(duì)應(yīng)的專利保護(hù)

企業(yè)是否掌握具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的核心技術(shù)，對(duì)于科技創(chuàng)新引領(lǐng)型企業(yè)至關(guān)重要。智信九鼎提出以專利分級(jí)的方式，結(jié)合同族和引證關(guān)系，獲得產(chǎn)品、技術(shù)對(duì)應(yīng)的核心專利，最終以專利組合來反映企業(yè)對(duì)自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)核心技術(shù)的掌握情況。

安集微電子核心技術(shù)涉及化學(xué)機(jī)械拋光液的核心技術(shù)有五項(xiàng)：金屬表面氧化技術(shù)、金屬表面腐蝕抑制技術(shù)、拋光速率調(diào)節(jié)技術(shù)、拋光晶圓表面形貌控制技術(shù)和拋光后表面清洗技術(shù)；涉及光刻膠的核心技術(shù)有兩項(xiàng)：光阻清洗中金屬防腐蝕技術(shù)和光刻膠殘留物去除技術(shù)。其涉及的專利項(xiàng)數(shù)如下所示：

根據(jù)公司產(chǎn)品的銷售情況來看，化學(xué)機(jī)械拋光液占比最大（其中銅及銅的阻擋層系列占比最大，但銷售占比下降明顯），其次為光刻膠去除劑。根據(jù)2016-2018年度的銷售數(shù)據(jù)，化學(xué)機(jī)械拋光液的占比由2016年的89.75%下降到2018年的82.78%；而光刻膠去除劑的占比由2016年的9.87%上升到2018年的16.97%。由于近三年銷售情況的變化，顯示出光刻膠去除劑方面的市場(chǎng)需求的增長(zhǎng)，在專利方面理應(yīng)做出更多的布局，安集微電子2015年在中國(guó)申請(qǐng)的專利共6件，由于專利申請(qǐng)后需要18個(gè)月才能公開，數(shù)據(jù)會(huì)存在誤差。

專利質(zhì)量的宏觀分析

專利質(zhì)量的分析一般可以分為宏觀分析和微觀分析，宏觀分析可通過一些著錄項(xiàng)目信息的統(tǒng)計(jì)來反映專利的整體質(zhì)量；微觀的專利分析應(yīng)當(dāng)分析專利的實(shí)際保護(hù)寬度、專利的可規(guī)避性和專利的穩(wěn)定性等。限于篇幅，本文僅介紹宏觀的專利質(zhì)量分析。

1、同族專利情況

安集微電子披露的190項(xiàng)專利經(jīng)過同族合并后實(shí)際為178項(xiàng)，其中70項(xiàng)存在同族專利，占比39.3%，同族專利以臺(tái)灣地區(qū)布局為主，還涉及美國(guó)、新加坡、韓國(guó)。

2、專利引證

一般來講，專利的被引證數(shù)量可以反映專利的重要程度。根據(jù)統(tǒng)計(jì)顯示，安集微電子的專利家族的被引證中：101項(xiàng)被引證次數(shù)為0；被引證1-9次的專利項(xiàng)數(shù)63項(xiàng)；被引證次數(shù)11-20次的專利項(xiàng)數(shù)為9項(xiàng)；被引證次數(shù)20項(xiàng)以上的專利5項(xiàng)，表明專利整體質(zhì)量較高。

此外專利的引證主體的實(shí)力也可以反映技術(shù)的重要程度。根據(jù)家族被引證專利申請(qǐng)人統(tǒng)計(jì)結(jié)果，共得到196家專利技術(shù)相關(guān)申請(qǐng)人，其中卡伯特微電子公司和CMP羅姆和哈斯電子材料控股公司的引證較多。

3、專利的權(quán)利要求數(shù)量

一般來說，專利的權(quán)利要求數(shù)量越多表明專利的質(zhì)量和穩(wěn)定性越高。據(jù)統(tǒng)計(jì)，安集微電子的專利的平均權(quán)利要求數(shù)為10.8，超過了國(guó)內(nèi)專利申請(qǐng)額外收取費(fèi)用的限定值10，反映了專利的整體質(zhì)量較高。

4、說明書的長(zhǎng)度

專利文件的頁(yè)數(shù)可以可以反映專利質(zhì)量的高低、對(duì)技術(shù)方案的披露的詳盡程度、實(shí)施例的豐富程度。據(jù)統(tǒng)計(jì)，安集微電子的專利平均文獻(xiàn)頁(yè)數(shù)為9.12，略低于同領(lǐng)域的平均頁(yè)數(shù)9.6。

同領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手

分別以拋光劑和光刻膠去除劑兩個(gè)技術(shù)主題進(jìn)行檢索，并對(duì)申請(qǐng)?zhí)栠M(jìn)行合并處理后，得到全球?qū)＠赜蚍植?，專利申?qǐng)量排名依次為美國(guó)、中國(guó)、韓國(guó)、日本、臺(tái)灣。

全球申請(qǐng)人排名依次為卡伯特微電子公司、安集微電子有限公司、三星電子、巴斯夫、海力士半導(dǎo)體公司，可見安集微電子在全球中的地位靠前。安集微電子有限公司在中國(guó)大陸的申請(qǐng)量也穩(wěn)居第一，但在臺(tái)灣地區(qū)的布局略遜色于臺(tái)灣半導(dǎo)體制造有限公司、聯(lián)電和基尼卡公司，所以在臺(tái)灣地區(qū)可能會(huì)遇到較大的競(jìng)爭(zhēng)。

結(jié)語

目前科創(chuàng)板企業(yè)上市的披露要求還夠不完善。科技創(chuàng)新型企業(yè)是否掌握核心技術(shù)，以及是否擁有足夠數(shù)量和質(zhì)量的專利，是企業(yè)核心競(jìng)爭(zhēng)力的重要保障。在相同的技術(shù)領(lǐng)域中，存在哪些競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，各個(gè)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的布局情況、企業(yè)在主要的目標(biāo)市場(chǎng)區(qū)域的專利布局，以及專利申請(qǐng)的持續(xù)性都揭示了企業(yè)未來可能面臨的競(jìng)爭(zhēng)和應(yīng)對(duì)能力。除此之外，結(jié)合行業(yè)和競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的專利布局和研發(fā)動(dòng)向分析，企業(yè)在產(chǎn)業(yè)鏈上可能面臨的知識(shí)產(chǎn)權(quán)風(fēng)險(xiǎn)分析、自主掌握的核心專利的保護(hù)力度都將給科創(chuàng)板知識(shí)產(chǎn)權(quán)分析帶來全新的視角。

來源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）

作者：賈年龍 譙勤    智信九鼎科技評(píng)估

編輯：IPRdaily王穎          校對(duì)：IPRdaily縱橫君

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