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科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專(zhuān)利深度解析

深度
灣區(qū)知識(shí)產(chǎn)權(quán)6年前
科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專(zhuān)利深度解析

科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專(zhuān)利深度解析

#文章由作者授權(quán)發(fā)布,未經(jīng)作者允許,禁止轉(zhuǎn)載,不代表IPRdaily立場(chǎng)#


來(lái)源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)

作者:賈年龍 譙勤    智信九鼎科技評(píng)估

原標(biāo)題:科創(chuàng)板上市企業(yè)專(zhuān)利深度解析之——安集微電子


科技創(chuàng)新型企業(yè)是否掌握核心技術(shù),以及是否擁有足夠數(shù)量和質(zhì)量的專(zhuān)利,是企業(yè)核心競(jìng)爭(zhēng)力的重要保障。在相同的技術(shù)領(lǐng)域中,存在哪些競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手,各個(gè)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的布局情況、企業(yè)在主要的目標(biāo)市場(chǎng)區(qū)域的專(zhuān)利布局,以及專(zhuān)利申請(qǐng)的持續(xù)性都揭示了企業(yè)未來(lái)可能面臨的競(jìng)爭(zhēng)和應(yīng)對(duì)能力。除此之外,結(jié)合行業(yè)和競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的專(zhuān)利布局和研發(fā)動(dòng)向分析,企業(yè)在產(chǎn)業(yè)鏈上可能面臨的知識(shí)產(chǎn)權(quán)風(fēng)險(xiǎn)分析、自主掌握的核心專(zhuān)利的保護(hù)力度都將給科創(chuàng)板知識(shí)產(chǎn)權(quán)分析帶來(lái)全新的視角。


2019年6月13日中國(guó)證監(jiān)會(huì)和上海市政府聯(lián)合舉辦了上海證券交易所科創(chuàng)板的開(kāi)板,首批科創(chuàng)板上市公司也有望在7月22日上市。截至7月4日,已受理141家公司提交的發(fā)行上市申請(qǐng),向118家公司發(fā)出了首輪問(wèn)詢函,科創(chuàng)板股票上市委員會(huì)已審議通過(guò)31家公司的發(fā)行上市申請(qǐng),已有25家公司獲得證監(jiān)會(huì)同意注冊(cè)的批復(fù)。由于科創(chuàng)板上市企業(yè)的披露的基本內(nèi)容并不明朗,甚至出現(xiàn)“過(guò)會(huì)”后被撤回的現(xiàn)象。審議通過(guò)的企業(yè),在招股說(shuō)明書(shū)中即使披露了企業(yè)核心技術(shù)、專(zhuān)利數(shù)量等情況,但是對(duì)于各級(jí)機(jī)關(guān)以及普通股民來(lái)講,也很難進(jìn)一步了解專(zhuān)利真實(shí)價(jià)值以及專(zhuān)利價(jià)值背后深層次的信息,比如核心技術(shù)布局專(zhuān)利好壞、專(zhuān)利質(zhì)量的高低對(duì)企業(yè)的影響。


科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專(zhuān)利深度解析

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安集微電子


本文以科創(chuàng)板首批上市企業(yè)安集微電子為例,從專(zhuān)利的角度宏觀分析企業(yè)專(zhuān)利質(zhì)量、專(zhuān)利布局對(duì)企業(yè)核心技術(shù)的保護(hù)以及同領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手情況,以為您提供更多參考。


專(zhuān)利申請(qǐng)


科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專(zhuān)利深度解析 


從申請(qǐng)時(shí)間來(lái)看:披露的專(zhuān)利為2005-2014年間申請(qǐng)并獲得授權(quán)的專(zhuān)利。其中絕大部分為2005-2010年間的申請(qǐng),最早的申請(qǐng)至今維持年限已有14年,達(dá)到最大維持年限20年的剩余壽命為6-10年。


從申請(qǐng)的持續(xù)性來(lái)看:專(zhuān)利申請(qǐng)數(shù)量從2014年開(kāi)始整體上有所下降,但每年仍有大約20項(xiàng)左右的申請(qǐng),持續(xù)研發(fā)能力較好。


從專(zhuān)利類(lèi)型來(lái)看:披露的190件專(zhuān)利均為發(fā)明專(zhuān)利,相對(duì)來(lái)講創(chuàng)新性較高。


從技術(shù)起源來(lái)看:主要為發(fā)行人自主持有,有少數(shù)控股公司的內(nèi)部轉(zhuǎn)讓?zhuān)灾餮邪l(fā)能力強(qiáng)。


從地域布局來(lái)看:發(fā)行人主要集中在中國(guó)大陸,這與公司產(chǎn)品本土化的特點(diǎn)相符,我們也可以看到發(fā)行人在臺(tái)灣也有大量布局,這與主要客戶之一臺(tái)積電密切相關(guān)。


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核心技術(shù)對(duì)應(yīng)的專(zhuān)利保護(hù)


企業(yè)是否掌握具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的核心技術(shù),對(duì)于科技創(chuàng)新引領(lǐng)型企業(yè)至關(guān)重要。智信九鼎提出以專(zhuān)利分級(jí)的方式,結(jié)合同族和引證關(guān)系,獲得產(chǎn)品、技術(shù)對(duì)應(yīng)的核心專(zhuān)利,最終以專(zhuān)利組合來(lái)反映企業(yè)對(duì)自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)核心技術(shù)的掌握情況。


安集微電子核心技術(shù)涉及化學(xué)機(jī)械拋光液的核心技術(shù)有五項(xiàng):金屬表面氧化技術(shù)、金屬表面腐蝕抑制技術(shù)、拋光速率調(diào)節(jié)技術(shù)、拋光晶圓表面形貌控制技術(shù)和拋光后表面清洗技術(shù);涉及光刻膠的核心技術(shù)有兩項(xiàng):光阻清洗中金屬防腐蝕技術(shù)和光刻膠殘留物去除技術(shù)。其涉及的專(zhuān)利項(xiàng)數(shù)如下所示:


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根據(jù)公司產(chǎn)品的銷(xiāo)售情況來(lái)看,化學(xué)機(jī)械拋光液占比最大(其中銅及銅的阻擋層系列占比最大,但銷(xiāo)售占比下降明顯),其次為光刻膠去除劑。根據(jù)2016-2018年度的銷(xiāo)售數(shù)據(jù),化學(xué)機(jī)械拋光液的占比由2016年的89.75%下降到2018年的82.78%;而光刻膠去除劑的占比由2016年的9.87%上升到2018年的16.97%。由于近三年銷(xiāo)售情況的變化,顯示出光刻膠去除劑方面的市場(chǎng)需求的增長(zhǎng),在專(zhuān)利方面理應(yīng)做出更多的布局,安集微電子2015年在中國(guó)申請(qǐng)的專(zhuān)利共6件,由于專(zhuān)利申請(qǐng)后需要18個(gè)月才能公開(kāi),數(shù)據(jù)會(huì)存在誤差。


專(zhuān)利質(zhì)量的宏觀分析


專(zhuān)利質(zhì)量的分析一般可以分為宏觀分析和微觀分析,宏觀分析可通過(guò)一些著錄項(xiàng)目信息的統(tǒng)計(jì)來(lái)反映專(zhuān)利的整體質(zhì)量;微觀的專(zhuān)利分析應(yīng)當(dāng)分析專(zhuān)利的實(shí)際保護(hù)寬度、專(zhuān)利的可規(guī)避性和專(zhuān)利的穩(wěn)定性等。限于篇幅,本文僅介紹宏觀的專(zhuān)利質(zhì)量分析。


1、同族專(zhuān)利情況


安集微電子披露的190項(xiàng)專(zhuān)利經(jīng)過(guò)同族合并后實(shí)際為178項(xiàng),其中70項(xiàng)存在同族專(zhuān)利,占比39.3%,同族專(zhuān)利以臺(tái)灣地區(qū)布局為主,還涉及美國(guó)、新加坡、韓國(guó)。


2、專(zhuān)利引證


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一般來(lái)講,專(zhuān)利的被引證數(shù)量可以反映專(zhuān)利的重要程度。根據(jù)統(tǒng)計(jì)顯示,安集微電子的專(zhuān)利家族的被引證中:101項(xiàng)被引證次數(shù)為0;被引證1-9次的專(zhuān)利項(xiàng)數(shù)63項(xiàng);被引證次數(shù)11-20次的專(zhuān)利項(xiàng)數(shù)為9項(xiàng);被引證次數(shù)20項(xiàng)以上的專(zhuān)利5項(xiàng),表明專(zhuān)利整體質(zhì)量較高。


此外專(zhuān)利的引證主體的實(shí)力也可以反映技術(shù)的重要程度。根據(jù)家族被引證專(zhuān)利申請(qǐng)人統(tǒng)計(jì)結(jié)果,共得到196家專(zhuān)利技術(shù)相關(guān)申請(qǐng)人,其中卡伯特微電子公司和CMP羅姆和哈斯電子材料控股公司的引證較多。


3、專(zhuān)利的權(quán)利要求數(shù)量


一般來(lái)說(shuō),專(zhuān)利的權(quán)利要求數(shù)量越多表明專(zhuān)利的質(zhì)量和穩(wěn)定性越高。據(jù)統(tǒng)計(jì),安集微電子的專(zhuān)利的平均權(quán)利要求數(shù)為10.8,超過(guò)了國(guó)內(nèi)專(zhuān)利申請(qǐng)額外收取費(fèi)用的限定值10,反映了專(zhuān)利的整體質(zhì)量較高。


4、說(shuō)明書(shū)的長(zhǎng)度


專(zhuān)利文件的頁(yè)數(shù)可以可以反映專(zhuān)利質(zhì)量的高低、對(duì)技術(shù)方案的披露的詳盡程度、實(shí)施例的豐富程度。據(jù)統(tǒng)計(jì),安集微電子的專(zhuān)利平均文獻(xiàn)頁(yè)數(shù)為9.12,略低于同領(lǐng)域的平均頁(yè)數(shù)9.6。


同領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手


分別以拋光劑和光刻膠去除劑兩個(gè)技術(shù)主題進(jìn)行檢索,并對(duì)申請(qǐng)?zhí)栠M(jìn)行合并處理后,得到全球?qū)@赜蚍植迹瑢?zhuān)利申請(qǐng)量排名依次為美國(guó)、中國(guó)、韓國(guó)、日本、臺(tái)灣。


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全球申請(qǐng)人排名依次為卡伯特微電子公司、安集微電子有限公司、三星電子、巴斯夫、海力士半導(dǎo)體公司,可見(jiàn)安集微電子在全球中的地位靠前。安集微電子有限公司在中國(guó)大陸的申請(qǐng)量也穩(wěn)居第一,但在臺(tái)灣地區(qū)的布局略遜色于臺(tái)灣半導(dǎo)體制造有限公司、聯(lián)電和基尼卡公司,所以在臺(tái)灣地區(qū)可能會(huì)遇到較大的競(jìng)爭(zhēng)。


結(jié)語(yǔ)


目前科創(chuàng)板企業(yè)上市的披露要求還夠不完善??萍紕?chuàng)新型企業(yè)是否掌握核心技術(shù),以及是否擁有足夠數(shù)量和質(zhì)量的專(zhuān)利,是企業(yè)核心競(jìng)爭(zhēng)力的重要保障。在相同的技術(shù)領(lǐng)域中,存在哪些競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手,各個(gè)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的布局情況、企業(yè)在主要的目標(biāo)市場(chǎng)區(qū)域的專(zhuān)利布局,以及專(zhuān)利申請(qǐng)的持續(xù)性都揭示了企業(yè)未來(lái)可能面臨的競(jìng)爭(zhēng)和應(yīng)對(duì)能力。除此之外,結(jié)合行業(yè)和競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的專(zhuān)利布局和研發(fā)動(dòng)向分析,企業(yè)在產(chǎn)業(yè)鏈上可能面臨的知識(shí)產(chǎn)權(quán)風(fēng)險(xiǎn)分析、自主掌握的核心專(zhuān)利的保護(hù)力度都將給科創(chuàng)板知識(shí)產(chǎn)權(quán)分析帶來(lái)全新的視角。


來(lái)源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)

作者:賈年龍 譙勤    智信九鼎科技評(píng)估

編輯:IPRdaily王穎          校對(duì):IPRdaily縱橫君


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