剛剛！Cambrios在中國提交兩份對C3Nano公司相關(guān)專利的無效宣告請求

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原標題：官宣！ Cambrios Film Solutions市場動態(tài)

官宣

Cambrios Film Solutions市場動態(tài)

- 宣布推出全球首款金屬-納米銀線（MOS）

解決方案

- 請求無效C3Nano兩件納米銀線中國專利

- 于美國調(diào)查侵犯Cambrios專利的產(chǎn)品

加利福尼亞州桑尼維爾，2019年8月11日- 身為納米銀線Silver Nano Wires（“SNW”）技術(shù)的領(lǐng)導者，Cambrios Film Solutions（“Cambrios”）今天宣布推出世界上第一款能實現(xiàn)新柔性和可穿戴消費裝置量產(chǎn)的金屬-納米銀線（“MOS”，金屬可為銅、銀等）先進材料。Cambrios突破性的MOS材料是以SNW為主的柔性材料，可直接取代已經(jīng)為世界上許多最知名的智能手機所采用的MOI（ITO-金屬）材料。

Cambrios在中國提交了兩份對C3Nano公司兩件中國SNW相關(guān)專利做出無效宣告的請求。依照目前的政治環(huán)境，似乎SNW的市場導入被區(qū)分為中國和美國/世界其他市場，而中國市場正以較快的速度向前發(fā)展，因此Cambrios對這樣的市場發(fā)展作出反應。

與針對C3Nano美國'968及'301專利提出的多方復審（IPR）中的論點一致，Cambrios在中國的無效宣告請求理由書中主張C3Nano的'555和'577專利無效，并挑戰(zhàn)C3Nano聲稱其“熔合技術(shù)”沒有被現(xiàn)有技術(shù)所涵蓋的論點。Cambrios在其理由書中說明，在C3Nano提交'555和'577專利的數(shù)年前，SNW透明導電膜電學和光學性能方面的實現(xiàn)就已經(jīng)超過'555和'577專利所描述者。Cambrios會持續(xù)于全球?qū)＠麑用嫔吓Γㄔ谥袊懊绹葱l(wèi)其SNW相關(guān)專利組合，以及針對其他市場參與者企圖涵蓋習知技術(shù)的不當專利，提出有效性挑戰(zhàn)。

Cambrios還致力于積極執(zhí)行其知識產(chǎn)權(quán)，范圍擴及且包括墨水和薄膜供貨商，例如C3Nano。Cambrios目前正努力調(diào)查已在美國市場上銷售的產(chǎn)品，以及任何涉嫌含有侵權(quán)SNW墨水或薄膜的未來產(chǎn)品。如果發(fā)現(xiàn)有侵害Cambrios專利權(quán)的產(chǎn)品或行為，Cambrios將采取適當措施以防止被侵權(quán)。必要時Cambrios將會采取法律行動，并且會在提出法律行動時發(fā)布新聞稿，指出被控侵權(quán)人和侵權(quán)產(chǎn)品。

Cambrios以其強大的專利組合聞名于該行業(yè)。Cambrios在大規(guī)模量產(chǎn)SNW的基礎(chǔ)研究和開發(fā)方面已有超過14年的歷史，且自始就致力于其知識產(chǎn)權(quán)的保護。Cambrios在研發(fā)方面投入巨資，為客戶提供最優(yōu)質(zhì)、最可靠的SNW解決方案。也因此，Cambrios能憑借其包含190項以上已授權(quán)專利的全球?qū)＠M合(占該領(lǐng)域已授權(quán)專利的大宗)，繼續(xù)處于市場有利地位。

Cambrios首席技術(shù)官Michael Spaid說: “Cambrios致力于保護其在SNW技術(shù)領(lǐng)域超過十年的研發(fā)創(chuàng)新投資，并將大力捍衛(wèi)其知識產(chǎn)權(quán)，防止SNW墨水制造商、SNW薄膜制造商、傳感器制造商或原始設(shè)備制造商等的未經(jīng)授權(quán)使用”。

有關(guān)Cambrios Film Solutions的更多信息，請訪問www.cambrios.com。

關(guān)于Cambrios Film Solutions

Cambrios Film Solutions Corporation是這些專利的所有者，是一家控股公司。研發(fā)由其位于美國加利福尼亞州桑尼維爾的美國子公司Cambrios Advanced Materials Corporation進行，中國臺灣以及大陸地區(qū)的子公司負責管理銷售和生產(chǎn)。該公司的ClearOhm?產(chǎn)品是一種透明導體，具有比傳統(tǒng)材料和方法更高的光學和電學性能。ClearOhm材料的應用包括觸摸屏，EMI屏蔽，ePaper，OLED照明和薄膜光伏裝置。

來源：LinkIPR

編輯：IPRdaily王穎校對：IPRdaily縱橫君

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