專利審?fù)ù疝q之“隱藏在技術(shù)問(wèn)題中的創(chuàng)造性”

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作者：IPMr齊

原標(biāo)題：專利審?fù)ù疝q之"隱藏在技術(shù)問(wèn)題中的創(chuàng)造性"

認(rèn)識(shí)發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題已經(jīng)超出了本領(lǐng)域技術(shù)人員的能力或水平，但問(wèn)題一經(jīng)提出，其解決手段是顯而易見的，此時(shí)，發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比是非顯而易見的，具備創(chuàng)造性。

一、判斷標(biāo)準(zhǔn)

技術(shù)問(wèn)題的產(chǎn)生具有偶然性和滯后性。

二、法律依據(jù)

《審查操作規(guī)程·實(shí)質(zhì)審查分冊(cè)》第四章第4.1節(jié)記載“認(rèn)識(shí)發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題已經(jīng)超出了本領(lǐng)域技術(shù)人員的能力或水平，但問(wèn)題一經(jīng)提出，其解決手段是顯而易見的，此時(shí)，發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比是非顯而易見的，具備創(chuàng)造性”。

三、答復(fù)要點(diǎn)

最接近現(xiàn)有技術(shù)未明示或暗示其存在本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題，在此基礎(chǔ)上由于該問(wèn)題的產(chǎn)生具有偶然性和滯后性，導(dǎo)致本領(lǐng)域技術(shù)人員無(wú)法在對(duì)比文件1的基礎(chǔ)上意識(shí)到其的存在，所以提出解決“XX”問(wèn)題的區(qū)別技術(shù)特征對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是非顯而易見的。

四、授權(quán)案例

1.背景技術(shù)

氣動(dòng)傳感器10作為電子煙的感應(yīng)開關(guān)，僅在吸氣時(shí)產(chǎn)生感應(yīng)電流并基于感應(yīng)電流打開霧化器，在其他時(shí)間均關(guān)閉霧化器，以有效控制煙霧的產(chǎn)生時(shí)機(jī)。具體地講，當(dāng)從吸氣孔22吸氣時(shí)，空腔23內(nèi)產(chǎn)生氣流，在氣流的作用下使振膜單元6的振膜61的自由端發(fā)生形變并上下飄動(dòng)，此時(shí)振膜6與電極板1進(jìn)行交替的接觸和分離（摩擦發(fā)電原理），使電極板1和外殼2之間產(chǎn)生感應(yīng)電流，以控制電子煙的霧化器。

已有電子煙的氣動(dòng)傳感器10存在如下問(wèn)題：如何避免振膜組件6的振膜61在有逆向氣流進(jìn)入該氣動(dòng)傳感器10內(nèi)時(shí)產(chǎn)生聚攏、堆疊或卷圈等有害現(xiàn)象，進(jìn)而在降低故障率的同時(shí)提高電子煙的穩(wěn)定性等。

2.區(qū)別特征

本申請(qǐng)與對(duì)比文件1的區(qū)別在于：

本申請(qǐng)的振膜120呈拱形設(shè)置，且該振膜的兩端固定設(shè)置在外殼210內(nèi)部的容置腔室中；

對(duì)比文件1的振膜61呈片形設(shè)置，其該振膜61的一端固定在外殼2內(nèi)部的容置腔室中。

3.審查意見

對(duì)于上述區(qū)別特征，為了使振膜能夠在氣流的作用下與電極板進(jìn)行交替的接觸和分離，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠基于普通技術(shù)知識(shí)設(shè)計(jì)出多種固定方式，如將其兩端之一固定而另一端為自由端，或者將兩端固定而使中間為自由部位，又或者將中間部位固定而將兩端均設(shè)為自由端，也就是說(shuō)只要將振膜設(shè)計(jì)為存在固定端以及能夠自由振動(dòng)的部位即可，這并沒(méi)有付出創(chuàng)造性勞動(dòng)，因此，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際制備需要合理地選擇振膜的固定方式，將振膜的兩端固定設(shè)置在外殼內(nèi)部的容置腔室中，這是本領(lǐng)域的常規(guī)技術(shù)手段。

而當(dāng)將振膜的兩端固定設(shè)置在外殼內(nèi)部的容置腔室中時(shí)，為了使得振膜的中間自由端能夠往復(fù)振動(dòng)即上下振動(dòng)從而與電極相互摩擦產(chǎn)生感測(cè)電流，本領(lǐng)域技術(shù)人員容易想到將振膜的整體長(zhǎng)度設(shè)置成大于容置腔室的兩端固定長(zhǎng)度，如此振膜組件必然成拱形設(shè)置，否則若振膜固定在容器腔室兩端時(shí)呈大致直線設(shè)置，那么振膜的中間自由端在往復(fù)振動(dòng)時(shí)則不太容易或者需要較大的振動(dòng)力度才能與電極組件/或外殼的底壁相互摩擦，造成摩擦效果不好進(jìn)而導(dǎo)致傳感器的穩(wěn)定性及精度不高。因此，在對(duì)比文件1的基礎(chǔ)上結(jié)合本領(lǐng)域的公知常識(shí)得到權(quán)利要求1的技術(shù)方案對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員說(shuō)是顯而易見的，權(quán)利要求1不具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步，因而不符合專利法第22條第3款有創(chuàng)造性的規(guī)定。

4.答復(fù)核心

上述區(qū)別技術(shù)特征具備創(chuàng)造性，具體理由如下：

《審查操作規(guī)程·實(shí)質(zhì)審查分冊(cè)》第四章第4.1節(jié)記載“認(rèn)識(shí)發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題已經(jīng)超出了本領(lǐng)域技術(shù)人員的能力或水平，但問(wèn)題一經(jīng)提出，其解決手段是顯而易見的，此時(shí)，發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比是非顯而易見的，具備創(chuàng)造性”。

基于此，申請(qǐng)人認(rèn)為：對(duì)比文件1未記載或暗示其存在上述技術(shù)問(wèn)題，在此基礎(chǔ)上該問(wèn)題的產(chǎn)生具有偶然性和滯后性，導(dǎo)致本領(lǐng)域技術(shù)人員無(wú)法在對(duì)比文件1的基礎(chǔ)上意識(shí)到其的存在，所以提出解決“如何避免振膜在有逆向氣流進(jìn)入該氣動(dòng)傳感器內(nèi)時(shí)產(chǎn)生聚攏、堆疊或卷圈等有害現(xiàn)象”問(wèn)題的區(qū)別技術(shù)特征對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是非顯而易見的，因此修改后權(quán)利要求1請(qǐng)求保護(hù)的技術(shù)方案具備創(chuàng)造性。

首先，在詳細(xì)閱讀對(duì)比文件1之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員完全可以直接、毫無(wú)疑問(wèn)確定其未記載或暗示其存在上述技術(shù)問(wèn)題。

其次，本領(lǐng)域技術(shù)人員無(wú)法在對(duì)比文件1的基礎(chǔ)上意識(shí)到其存在上述技術(shù)問(wèn)題。具體地說(shuō)，在實(shí)施本發(fā)明的過(guò)程中，申請(qǐng)人發(fā)現(xiàn)上述技術(shù)問(wèn)題的過(guò)程是：在申請(qǐng)日以前的且風(fēng)力達(dá)5~6級(jí)一天里，其內(nèi)部員工在家里露天陽(yáng)臺(tái)上試用對(duì)比文件1（這是申請(qǐng)人先申請(qǐng)的專利）的電子煙時(shí)忽然出現(xiàn)失靈，于是將其歸還公司研發(fā)部門進(jìn)行原因分析，結(jié)果發(fā)現(xiàn)是由于5~6級(jí)自然風(fēng)逆向進(jìn)入氣動(dòng)傳感器而導(dǎo)致振膜產(chǎn)生卷圈，以致振膜無(wú)法在正向氣流的作用下與電極相互摩擦而產(chǎn)生感測(cè)電流。不難理解，逆向氣流（吸取方向的反向）的產(chǎn)生和風(fēng)力是影響振膜能否產(chǎn)生聚攏、堆疊或卷圈等有害現(xiàn)象的根本原因。由于有害現(xiàn)象的產(chǎn)生不僅要求有逆向氣流進(jìn)入氣動(dòng)傳感器，而且要求逆向氣流的風(fēng)力達(dá)到一定程度，所以上述技術(shù)問(wèn)題的產(chǎn)生存在偶然性和滯后性，這是本領(lǐng)域技術(shù)人員難以發(fā)現(xiàn)的問(wèn)題，所以他無(wú)法在對(duì)比文件1的基礎(chǔ)上意識(shí)到對(duì)比文件1存在上述技術(shù)問(wèn)題。

因此，提出解決“如何避免振膜組件在有逆向氣流進(jìn)入該氣動(dòng)傳感器內(nèi)時(shí)產(chǎn)生聚攏、堆疊或卷圈等有害現(xiàn)象”問(wèn)題的區(qū)別技術(shù)特征（1）對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是非顯而易見的，因此修改后權(quán)利要求1請(qǐng)求保護(hù)的技術(shù)方案具備創(chuàng)造性。

來(lái)源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）

作者：IPMr齊

編輯：IPRdaily王穎          校對(duì)：IPRdaily縱橫君

注：原文鏈接：專利審?fù)ù疝q之"隱藏在技術(shù)問(wèn)題中的創(chuàng)造性"（點(diǎn)擊標(biāo)題查看原文）

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